[发明专利]磁记录媒体

说明书

技术领域

本发明是有关磁记录媒体的。更详细来说是在超净化的环境下形成的磁记录媒体，即有关在利用强磁性金属层的氧气浓度为100wtppm以下的磁通量反转的磁记录媒体上，标准化矫顽磁力(Hc/H_k^grain：Hc＝矫顽磁力、H_k^grain＝各向异性磁场)高，并且在记录重放时的媒体的S/N比优良的高密度磁记录媒体。本发明的磁记录媒体很适合于硬盘、软盘、磁带等中使用。背景技术

作为现有的磁记录媒体及其制造方法，下述的技术是熟知的。

图8是说明磁记录媒体的一例硬盘的概要图。在图8中，图8(a)为磁记录媒体整体斜视图，图8(b)是图8(a)的(A-A′)部分的断面图。基体1采用在A1基板2的表面上具有非磁性(Ni-P)层3的构成。而且在该基体1的上面层叠有Cr底层4、强磁性金属层5、保护层6。

非磁性(Ni-P)层3是通过电镀法或溅射法在A1基板2的表面上形成直径89mm(3.5inch)/厚度1.27mm(50mil)的盘状，构成基体1。另外，在非磁性(Ni-P)层3的表面上具有由机械研磨处理的同心圆状的划痕(以下称槽纹)。一般来说非磁性(Ni-P)层3的表面粗糙度，即在半径方向测量时的平均中心线粗糙度Ra为5nm～15nm.。另外，Cr底层4和强磁性金属层5(一般是Co合金系列磁性膜)由溅射法在上述的基体1的表面上形成，最后为了保护强磁性金属层5，具有用溅射法由碳等构成的保护层6。典型的各层厚度是：非磁性(Ni-P)层3为5μm～15μm、Cr底层4为50nm～150nm、强磁性金属层5为30nm～100nm、保护层6为20nm～50nm。

具有上述层构成的现有磁记录媒体，是在溅射成膜前的成膜室的背压10^-7Torr数量级，并且成膜用的Ar气体的杂质浓度在1ppm以上的条件下制造的。

中井等在报告提出：在由上述制作方法所得到的磁记录媒体中，特别是包括Ta元素的强磁性金属层5(例如CoCrTa合金磁性膜)时，在形成强磁性金属层的晶粒间存在由非结晶(无定性的)结构构成的晶间层以及该晶间层由非磁性合金组成的(J.Nakai E.KusumotoM.Kuwabara T.Miyamoto M.R.Visokay K.Yoshikawa and K.Itayama，“Relation Btween Microstructure of Grain Boundary and theIntergranular Exchange in CoCrTa thin Film for LongitudinalRecording Media，IEEE Trans.Magn.”，vol.30，No.60，pp.3969，1994.)。但是，在不包含Ta元素的强磁性金属层(例如CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜)时，上述晶间层没有确认。另外在本报告中记载有在强磁性金属包含Ta元素时，磁记录媒体的标准化矫顽磁力(表示为Hc/H_k^grain)对具有0.3以上的大的值，而不包含Ta元素时，该值取小于0.3的值。

上述的强磁性金属层的标准化矫顽磁力(H_c/H_k^grain)是矫顽磁力Hc除以晶粒的各向异性磁场H_k^grain的值，表示晶粒的磁性弧立性的提高情况。即，强磁性金属层的标准化矫顽磁力高的意思是指构成强磁性金属层的各个晶粒的磁性相互作用降低，可实现高的顽强力。

在国际申请的PCT/JP94/01184号公报中公开的技术是在不使用高价的强磁性金属层的情况下，增大矫顽磁力的低价高密度记录媒体及其制造方法。即，是在基体的表面上通过金属底层形成强磁性金属层，利用磁通量反转的磁记录媒体中，通过使成膜用的Ar气体的杂质浓度为10ppb以下，而使金属底层或/和强磁性金属层的氧气浓度为100wtppm以下。另外公报中还报告了在形成上述金属底层之前使用杂质浓度为10ppb以下的Ar气体，用高频溅射对上述基体表面进行净化处理。通过对上述基体的表面除去0.2nm～1nm，使矫顽磁力进一步增大。在该报告中还记述了磁记录媒体的标准化矫顽磁力和媒体噪声之间是相关的，为了得到低噪声媒体，应使标准化矫顽磁力在0.3以上、0.5以下。