[发明专利]作为5－HTID受体配位体的5－环吲哚化合物

说明书

本发明涉及碳环和杂环取代的吲哚化合物，包含此类化合物的药物组合物和所述化合物的药物用途，尤其是在治疗CNS疾病中的药物用途。

根据本发明的一个方面，提供了下式I的化合物和其立体异构体、溶剂化物、水合物或可成药盐：其中A选自六元非芳族、取代或未取代的碳环和六元非芳族取代或未取代的杂环，其具有一个或两个选自O、S、SO、SO₂和NR⁴的杂原子；R¹选自H和OH；根据化学结构式允许，n为0或1；R²选自CR⁵R⁶CH₂NR⁷R⁸或下式II、III或IV的基团：R³选自H和苯甲酰基；R⁴选自H、低级烷基、苄基、低级烷基羰基、低级烷基氨基羰基、低级烷基氨基硫代羰基、低级链烷酰基、低级烷基氨基酰亚氨基(loweralkylaminoimide)和低级烷氧基取代的低级亚烷基；R⁵和R⁶独立地选自H、低级烷氧基和羟基；R⁷和R⁸独立地选自H和低级烷基，或者，R⁷和R⁸与和其相连的氮原子一起形成亚烷基桥，产生取代或未取代的3-6元环；一代表单键或双键；并且R⁹、R¹⁰和R¹¹独立地选自H和低级烷基；其前提条件是：当A为环己烷，且R³为H时，而R²不为CH₂CH₂NH₂。

根据本发明的另一个方面，提供了一种药物组合物，其包含对刺激5-HT_ID样受体有效量的式V化合物和可成药载体：其中A选自六元非芳族、取代或未取代的碳环和六元非芳族取代或未取代的杂环，其具有一个或两个选自O、S、SO、SO₂和NR⁴的杂原子；R¹选自H和OH；根据化学结构式允许，n为0或1；R²选自CR⁵R⁶CH₂NR⁷R⁸或下式II、III或IV的基团：R³选自H和苯甲酰基；R⁴选自H、低级烷基、苄基、低级烷基羰基、低级烷基氨基羰基、低级烷基氨基硫代羰基、低级链烷酰基、低级烷基氨基酰亚氨基和低级烷氧基取代的低级亚烷基；R⁵和R⁶独立地选自H、低级烷氧基和羟基；R⁷和R⁸独立地选自H和低级烷基，或者，R⁷和R⁸与和其相连的氮原子一起形成亚烷基桥，产生取代或未取代的3-6元环；一代表单键或双键；并且R⁹、R¹⁰和R¹¹独立地选自H和低级烷基。

根据本发明的另一个方面，提供了包含对治疗CNS疾病和对治疗偏头痛有效量的本发明化合物的组合物，其中，指明了5-HT_ID样配位体。下面，更详细地描述本发明的这些方面和其它方面。发明详述和优选的实施方案

术语“低级烷基”是指包含1-6个碳原子的直链或和支链烷基，包括甲基、乙基、丙基、异丙基、叔丁基等。

术语“六元非芳族、取代或未取代的杂环基”是指包含0-1个双键且包含1或2个选自O、NR⁴、S、SO和SO₂杂原子的取代或未取代的环(包括二氢吡喃、四氢吡喃、氮杂环己烷、氮杂环己烯、二氢噻喃、四氢噻喃等)。

术语“六元、取代或未取代的非芳族碳环”是指包含或不包含一个双键、取代或未取代的碳环，包括环己烷和环己烯。

“可药用盐”是指与患者的治疗相容的酸加成盐或碱加成盐。