[发明专利]含酰胺或酰亚胺的新颖共聚物,其制法,及含该共聚物的抗光蚀剂无效
| 申请号： | 97126349.3 | 申请日： | 1997-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1187496A | 公开（公告）日： | 1998-07-15 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;卢致亨 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C08F32/00 | 分类号： | C08F32/00;C08F122/36;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含酰胺 亚胺 新颖 共聚物 制法 抗光蚀剂 | ||
1.一种用于抗光蚀剂的共聚物，它是由至少两种环脂肪族的烯烃，及一种酰胺或酰亚胺所制备而得。
2.如权利要求1所述的用于抗光蚀剂的共聚物，其中该共聚物的分子量为3,000-200,000。
3.如权利要求1所述的用于抗光蚀剂的共聚物，其中该环脂肪族的烯烃选自碳酸亚乙烯酯，2-环戊烯-1-乙酸，2-环戊烯-1-(叔丁基乙酸酯)，双环[2，2，2]辛-5-烯-2-叔丁基羧基酯，双环[2，2，2]辛-5-烯-2-叔丁基羧酸酯，双环[2，2，2]辛-5-烯-2-羧酸，双环[2，2，2]辛-5-烯-2-(2-羟乙基)羧酸酯，2-(2-羟乙基)羧酸酯-5-降冰片烯，2-叔丁基羧酸酯-5-降冰片烯，2-羧酸-5-降冰片烯，环戊烯，环己烯，降冰片烯，及降冰片烯-2-甲醇。
4.如权利要求3所述的用于抗光蚀剂的共聚物，其中该共聚物的分子量为3,000-200,000。
5.如权利要求1所述的用于抗光蚀剂的共聚物，其中该酰胺或酰亚胺选自N-甲基顺丁烯二酰亚胺，顺丁烯二酰亚胺，N-乙基顺丁烯二酰亚胺，N-丁基顺丁烯二酰亚胺，N-叔丁基顺丁烯二酰亚胺，N-羟基顺丁烯二酰亚胺，丙烯酰胺，N，N-二甲基丙烯酰胺，和N-异丙基丙烯酰胺。
6.如权利要求5所述的用于抗光蚀剂的共聚物，其中该共聚物的分子量为3,000-200,000。
7.一种制备用于抗光蚀剂的共聚物的方法，其包含至少两种环脂肪族的烯烃与一种酰胺或酰亚胺的共聚合作用。
8.如权利要求7所述的方法，其中该共聚合作用是在摄氏60-200度的温度，及5.07-20.3MPa的压力下进行的。
9.一种抗光蚀剂，其包含至少两种环脂肪族的烯烃和一种酰胺或酰亚胺的共聚物。
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