[发明专利]金属硅化物熔体浸渗碳化硅坯件制备复合材料方法无效
| 申请号: | 97122308.4 | 申请日: | 1997-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN1063694C | 公开(公告)日: | 2001-03-28 |
| 发明(设计)人: | 潘颐 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
| 主分类号: | B22F3/00 | 分类号: | B22F3/00 |
| 代理公司: | 浙江大学专利代理事务所 | 代理人: | 张法高 |
| 地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属硅 化物熔体浸 渗碳 化硅坯件 制备 复合材料 方法 | ||
1.一种金属硅化物熔体浸渗碳化硅坯件制备复合材料方法,其特征在于:以纯钴、铁、钛、硅为原料,按分子式Co1.00~1.09Si0.91~1.00,或CoTi0.00~0.08Si0.92~1.00,或Fe4~6Si2~4的配比配料,在感应电炉中熔炼,熔炼温度为熔点Tm+0℃~Tm+200℃,液相完全形成后,保温10~60min,在交流感应搅拌的条件下,熔体均质化,熔炼始终在50乇~1000乇正压氩气保护下完成,冷却后得到球形锭,破碎后待作渗入用;颗粒度为0.3~10μ的碳化硅粉料在钢模中柱杆双向推进成形,获得相对密度在50~65%待渗碳化硅圆片状预制件,或者分散制浆再铸浆成形,获得相对密度在65~70%待渗碳化硅复杂形状预制件,分散剂首选氨水,待渗预制件在室温下干燥;用足量硅化物碎块放置在广口氧化铝坩埚内,坩埚中立一个或多个直径小于3~10mm,颗粒度为>5μ间接渗入碳化硅预制圆柱,待渗碳化硅预制件横置在这些间接渗入预制圆柱上,间接自发渗入在石墨发热体加热炉中完成,间接自发渗入温度为熔点Tm+50℃~Tm+250℃,渗入时间为20~200min,自发渗入始终在50乇~1000乇正压氩气保护下进行。
2.根据权利要求1所述的一种金属硅化物熔体浸渗碳化硅坯件制备复合材料方法,其特征在于:原料的分子式配比为Co1.01~1.06Si0.94~0.99,或CoTi0.02~0.07Si0.93~0.98,或Fe4.7~5.3Si2.7~3.3;熔炼温度为Tm+50℃~Tm+100℃;保温时间为20~40min;氩气压力为50乇~800乇;碳化硅预制圆柱直径为小于5~8mm;间接自发渗入温度为熔点Tm+100℃~Tm+150℃;渗入时间为40~60min。
3.根据权利要求1或2所述的一种金属硅化物熔体自发渗入碳化硅坯件制备复合材料方法,其特征在于:原料的分子式配比为Co1.05Si0.95,或CoTi0.05Si0.95,或Fe5Si3;熔炼温度为熔点Tm+80℃;保温时间为30min;氩气压力为750乇;碳化硅预制圆柱直径小于6mm;间接自发渗入温度为熔点Tm+130℃;自发渗入时间为50min。
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