[发明专利]一种校定印相机的方法

权利要求书

1.一种校定印相机的方法，其特征在于包括以下步骤：

a)在印相机的测量区域内局部扫描将要印制的原始材料；

b)将由印制用原始材料的每一个扫描区域接收到的被测量光传递至检测器阵列，对所述的被测量光进行光谱分析，并将所述的被测量光转换为有关波长和强度的测量数据；

c)将测量数据数字化，以确定出原始材料的特定测量数据；

d)依据该测量数据，利用适合于用于原始材料印制的印制材料的第一模型和用于印制材料的第二模型，对所需要的入射曝光用的印制光的量做出评价，其中所述的第一模型代表着印制材料随原始材料的光谱组分的变化而变化的特性，所述的第二模型代表着印制材料随曝光量的变化而变化的吸收特性；

e)依据对印制光的量做出的评价，来确定出用于配置在印相机的印制区域中的彩色滤光片和快门的控制信号，所述的控制信号用于在将原始材料印制到印制材料上的过程中，使所述的彩色滤光片和快门定位；

f)在处理区域处理印制在印制材料上的原始材料的印制件；

g)局部的扫描处理后的印制件；

h)将由印制材料的每一个被扫描区域给出的被测量光传递至所述的检测器阵列，对所述的被测量光进行光谱分析，并将由所述的印制材料给出的所述的被测量光转换为有关波长和强度的测量数据；

i)将测量数据数字化，并利用它们确定印制材料的特定测量数据；

j)依据该印制材料的特定测量数据、原始材料的特定测量数据和所述的曝光量，相应于特定准确度判断标准检测并优化第一模型和第二模型。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于在处理区域的输出侧扫描处理后的印制件。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于依据印制材料的特定测量数据对第一模型和第二模型进行优化，直至作为第一和第二模型中的至少一个的准确度判断标准参数的均方差达到阈值时为止，而且对至少一个模型进行优化时，与此相关的另一个模型在这一优化过程中保持不变。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于对数字化的测量数据至少进行反转、正交变换中的至少一项和数据压缩，而且由这一变换所获得的变换参数被用做为第一模型的输入变量。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于确定第一模型的初始值，然后依据印制材料的特定测量数据、原始材料的特定测量数据和曝光量，对第一模型进行优化直至均方差达到阈值，然后利用该优化后的第一模型，依据印制材料的特定测量数据、原始材料的特定测量数据和曝光量，对第二模型进行优化直至均方差达到第二阈值。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的扫描原始材料的步骤和扫描印制材料的步骤均是用点型扫描实施的。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的被测量光是由原始材料和印制材料的每一个扫描区域透射出来的。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的被测量光是由原始材料和印制材料的每一个扫描区域反射出来的。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的第二模型是一个代表着曝光量变化的反转模型。

10.如权利要求3所述的方法，其特征在于所述的阈值是最小均方差。

11.如权利要求3所述的方法，其特征在于所述的阈值是一个特定的值。

12.如权利要求4所述的方法，其特征在于所述的变换是卡尔胡宁-勒夫变换。