[发明专利]水平电场类型的液晶显示无效

专利信息
申请号: 97113223.2 申请日: 1997-05-01
公开(公告)号: CN1188244A 公开(公告)日: 1998-07-22
发明(设计)人: 都甲康夫 申请(专利权)人: 斯坦利电气株式会社
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 萧掬昌,王忠忠
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 水平 电场 类型 液晶显示
【权利要求书】:

1、一种液晶显示元件,包括:

一对互相面对的基片;

一个液晶层,夹在一对基片中间;

把一个电场如到液晶层上的装置,该电场与一对基片表面基本上平行;以及

一个取向结构与液晶层相接的一对基片中的一个基片的界面不经受可靠的取向过程,而与液晶层相接的一对基片中的另一个基片的界面经受可靠的取向过程;

其中,液晶层的液晶分子的取向状态在两个平行于一对基片表面的方向之间改变。

2、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中所说的取向结构基本上不使所说的液晶层预倾斜。

3、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中一对基片中的经受可靠取向过程的另外一个基片的所说取向结构有多个拥有不同取向的取向区域。

4、如权利要求1所述的一种液晶显示元件,其中一个聚酰亚胺膜在一对基片中的一个上的液晶层的界面上形成。

5、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中一个聚乙烯醇(PVA)膜在一对基片中的一个基片的液晶层的界面上形成。

6、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中一个PVC膜在一对基片中的一个基片与液晶层的界面上形成。

7、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中一对基片中的另一个基片不形成用来施加电场的电极。

8、如权利要求1所说的一种液晶显示元件,其中一对基片中的一个基片形成用来施加电场的电极。

9、一种制造用来控制在平行于液晶显示元件的基片表面的方向上的液晶分子的取向状态的液晶显示元件的方法,包括下列步骤:

制备一个用来施加水平电场的电极的基片,并在基片表面上有不经受可靠取向过程的一层膜;

制备一个在其表面上有一个经受使用预定取向图案可靠取向过程的取向结构;

通过把两块基片互相面对放置而形成一个盒体;

并且,把液晶材料注入到这个盒体的两块基片之间,并且将液晶从各向同性相改变到液晶相来取向液晶分子。

10、如权利要求9所说的一种方法,其中所说的注入和取向步骤在液晶相注射液晶材料,并把液晶材料加热到一个温度,使液晶分子处于各向同性相,随后逐渐冷却液晶分子以改变到液晶相并且取向液晶分子。

11、如权利要求9所说的一种方法,其中所说的注入和取向步骤注入的液晶材料被加热到各向同性相,然后逐渐冷却液晶分子来改变到液晶相并且取向液晶分子。

12、如权利要求9所说的一种方法,其中通过磨擦实现可靠取向过程。

13、如权利要求12所述的一种方法,其中所说的制备在其表面上有经受可靠取向过程的取向结构基片的步骤,在基片上形成一个聚酰亚胺膜,这个聚酰亚胺膜可在垂直于磨擦方向上取向液晶分子。

14、如权利要求9所说的一种方法,其中这个液晶材料不加入手性材料。

15、如权利要求9所说的一种方法,其中这个可靠取向过程形成一个取向结构,因而基本上不使液晶分子预倾斜。

16、如权利要求9所说的一种方法,其中这个取向结构包括一个偏振记忆膜,并且这个可靠取向过程是在偏振记忆膜上施加一个偏振光的过程。

17、如权利要求9所说的一种方法,其中这个取向结构包括一个偏振记忆膜,该可靠取向过程是一个倾斜地非偏振光施加到偏振记忆膜上的过程。

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