[发明专利]薄膜致动反射镜阵列及其制造方法

权利要求书

1、一种在光学投影系统中使用的M×N薄膜致动反射镜的阵列，其特征在于，该阵列包括：

一个有源矩阵，该有源矩阵包括个基底和一个M×N连接端子阵列；以及

一个M×N致动反射镜机构的阵列，各致动反射镜机构均具有一个近端和一个远端，并包括一第一薄膜电极、一个阻隔件、一个薄膜电致位移件、一个第二薄膜电极和一个弹性件，其中该薄膜电致位移件放置在二电极之间，阻隔件位于该第一薄膜电极和该薄膜电致位移件之间，该第二薄膜电极具有一个离子破坏顶表面，各致动反射镜机构的近端的底部与有源矩阵的顶部相连接，从而被悬臂支持住。

2、根据权利要求1所述的阵列，其特征在于，该有源矩阵还包括一个钝化层和一个阻蚀层。

3、根据权利要求1所述的阵列，其特征在于，该阻隔件由氧化物例如二氧化硅(SiO₂)构成。

4、一种制造用于光学投影系统的M×N薄膜致动反射镜阵列的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

准备一有源矩阵，该有源矩阵包括一个基底和一M×N连接端子阵列；

在有源矩阵的顶上形成一薄膜待除层；

在薄膜待除层中建立一M×N空槽的阵列，各空槽分别位于一个连接端子的四周；

在包括空槽阵列的薄膜待除层的顶上沉积出一弹性层；

形成一M×N对导管的阵列；

将一第二薄膜层形成在包括导管的弹性层的顶部上；

利用离子束破坏第二薄膜层的顶表面；

沉积一个薄膜电致位移层；

将一阻隔层形成在薄膜电致位移层的顶上；

沉积一第一薄膜层，以形成一个多层结构；

构型该多层结构，从而构成一M×N致动反射镜机构的阵列；

去除该薄膜保护层，从而形成一M×N薄膜致动反射镜阵列。

5、根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括将一钝化层沉积在该有源矩阵之上的步骤。

6、根据权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括将一个阻蚀层沉积在该钝化层之上的步骤。

7、根据权利要求4所述的方法，其特征在于，该离子束为惰性气体离子束。

8、根据权利要求4所述的方法，其特征在于，该阻隔层的厚度小于100埃。

9、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，利用溅射法、真空蒸镀法或PECVD法，对该阻隔层进行沉积。