[发明专利]光敏树脂印板的制备方法无效

专利信息
申请号: 97102492.8 申请日: 1997-02-20
公开(公告)号: CN1092346C 公开(公告)日: 2002-10-09
发明(设计)人: 吉田正宏;藤冈健治 申请(专利权)人: 旭化成株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光敏 树脂 制备 方法
【权利要求书】:

1.光敏树脂印板的制备方法,其中包括对已曝光的光敏树脂借助含有用于光敏树脂的显影剂和以给定数量溶解或均匀地分散在所述显影剂中并且能够在有源辐射照射下从具有活泼氢原子的化合物中吸收氢原子的夺氢剂的组合物进行显影处理的步骤以及随后借助有源辐射照射制成的固化印板表面的步骤。

2.权利要求1的方法,其中所述夺氢剂是有机羰基化合物。

3.权利要求2的方法,其中所述有机羰基化合物是至少一种选自通式(I)和(II)表示的化合物:其中X1表示硫(-S-)、羰基(-CO-)或亚乙基(-CH2-CH2-);R1、R2和R3可以彼此相同或不同,并且均表示氢原子、含有1到5个碳原子的烷基、含有1到5个碳原子的烷氧基、选自F、Cl、Br和I的卤原子、含有1到5个碳原子的羟基烷基或含有1到5个碳原子的羟基烷氧基,其中R4表示氢原子、选自F、Cl、Br和I的卤原子、含有1到5个碳原子的烷氧基、羟基、含有1到5个碳原子的烷基、含有1到5个碳原子的羟烷基或含有1到5个碳原子的羟基烷氧基;X2表示分别由通式(III)、(IV)或(V)表示的取代的或未取代的苯甲酰基、苯基或萘基:其中R5表示选自F、Cl、Br和I的卤原子、氢原子、含有1到5个碳原子的烷基、含有1到5个碳原子的烷氧基、含有1到5个碳原子的羟烷基或含有1到5个碳原子的羟基烷氧基。

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