[实用新型]自堵式底浇装置无效

专利信息
申请号: 96219722.X 申请日: 1996-10-08
公开(公告)号: CN2281232Y 公开(公告)日: 1998-05-13
发明(设计)人: 常苏慧;韦龙 申请(专利权)人: 常苏慧;韦龙
主分类号: B22D41/48 分类号: B22D41/48;F27B14/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 何培硕
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 堵式底浇 装置
【说明书】:

实用新型涉及一种浇铸装置,而详言之是涉及一种利用坩埚底部开口与一自堵件来进行浇铸工序的自堵式底浇装置。

传统的倾倒式浇铸法是于坩埚中将浇铸原料加热至熔浆态后,以人力(或机械)方式将熔浆自坩埚中倒出。此种方式不但耗费人力,而且铸件的成品率及铸件品质亦不高,并且容易造成操作人员伤害。

另一种方式则是采用无氧铜(或其他高熔点合金)冷却板。但其所需之回转空间甚大,且需利用融盐或其他冷却剂的冷却循环设备。其中,冷却循环故障引发的无氧铜冷却板的熔化或冷却剂外泄所引起的急速体积膨胀所起的胀裂或爆炸,常对操作人员造成重大伤害。且当熔融金属与其相接触的刹那间,或多或少熔入或扩散入部份冷却板的材质,而造成熔浆的少许品质改变,因而,此种方式有使上述铸件品质导致或多或少的品质改变的问题。

因此,本实用新型的目的之一在于提供一种自堵式底浇装置,其中坩埚中的熔浆是自坩埚底部的开口流出,因而克服上述浇铸法之缺点。

为此,本实用新型提出一种自堵式底浇装置,其特征是,该装置包括:

一坩埚,浇铸原料承载于其中,该坩埚之底部设有一开口:

一第一加热源,该第一加热源是位于邻近所述坩埚处;

一自堵件,与浇铸原料的材料相同的该自堵件堵塞于该开口下方;

一驱动柱,其上方可达到顶抵所述自堵件位置,该驱动柱上升而位于使自堵件顶入坩埚底部之开口中;

至少一浇铸槽,其位于开口下方,每一浇铸槽皆含有多个彼此相隔开的浇铸孔;以及

一浇铸槽控制装置。

所述装置,其特征是,该坩埚底部中央隆起而界定出一截顶之隆丘,且所述开口位于该隆丘上。

所述装置,其特征是,另含有一第二加热源,该装置中自堵件之大部分位于第二加热源中。

所述装置,其特征是,该第二加热源为一密闭的加热炉,且第二加热源的温度低于第一加热源的温度,而不致使该自堵件熔解。

所述装置,其特征是,该第二加热源的温度可以为0℃或更低。

所述装置,其特征是,另含有一可承接来自所述开口的熔浆的内分流盘和连接至该内分流盘引导熔浆至各浇铸槽的多个流管。

所述装置,其特征是,其中该等浇铸槽以至少一连通管予以连通。

所述装置,其特征是,其中浇铸槽控制装置包括:

一浇铸杆,该杆与驱动柱联动地连接至该驱动柱,且该浇铸杆呈曲柄状;以及

一连动杆,所述浇铸杆相交地穿过连动杆而与其相连,该连动杆是位于浇铸槽下方,且设有与浇铸孔相对应之通孔,当该浇铸杆上升、下降时,该等通孔与该等浇铸孔相错位而关闭该浇铸槽,或者该等通孔与浇铸孔相对齐而使浇铸槽之熔浆得以下铸。

所述装置,其特征是,该装置另含多个与该等浇铸孔相对应的铸量调节装置,每一铸量调节装置可选择性地堵塞一与其相对应的浇铸孔所界定的槽室,该铸量调节装置包括:

一塞杆,可选择性地堵塞一与其相对应的槽室:以及

一传动杆,该传动杆之一端藉由一连接板与该塞杆平行相连,而另一端则连接至第二加热源外的一工人操作的控制板。

所述装置,其特征是,其中整个装置置于一真空环境中。

所述装置,其特征是,该装置另含一平台,平台上设有多个相对应于该等铸孔的模钵,每一模钵皆可装载一模具。

在本实用新型的自堵式底浇装置中,坩埚的底部经特殊设计,可提供较质纯的熔浆,并且可保留部分熔浆以使之对后续添料提供一种预热环境。

本实用新型的另一优点在于该自堵式底浇装置的浇铸槽是经设计而提供均匀的熔浆,以及可控制的下铸量。

本实用新型提出的装置可大量节省人工及工作场地,并提高铸件的成品率及铸件品质,同时也大幅度改善工作环境的安全性。另外,本实用新型提出的装置于真空下实施时可提供更精密的铸造。

本实用新型提出的装置进一步优点及功效可参阅如下之详细说明及附图而获得更清楚的了解。

图1所示为本实用新型提出的自堵式底浇装置的示意图;

图2A所示为图1中坩埚的放大示意图;

图2B所示为图2A所示坩埚的顶视图;

图3A所示为本实用新型提出的装置的浇铸槽控制装置的示意图;

图3B所示为图3A中连动杆的顶视示意图,惟此时连动杆的通孔是与浇铸孔相错开;

图4A所示为本实用新型提出的装置的铸量调节装置的示意图;

图4B所示为图4A调节装置的顶视图;以及

图5为本实用新型提出的自堵式底浇装置自内分流盘观之的顶视图。

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