[发明专利]混合氧化物型高折射率的涂料及方法

权利要求书

1.一种分子式为MN_xO_y的材料组合物，其中M和N选自Sc、Y、Ac、Ti、Zr、Hf、V、Nb和Ta，O是氧，x和y的值要使得氧与金属的比小于4和y/(1+x)的比例小于4，所述材料呈单一氧化物相，并且只有单一类型的晶体结构而没有明显的第二种晶体结构，所述材料是不足化学计量的。

2.一种分子式为MN_xO_y的材料组合物，其中M和N选自Sc、Y、La、Ac、Zr、Hf、V、Nb和Ta，O是氧，x和y的值要使得氧与金属的比小于4和y/(1+x)的比例小于4，所述材料呈单一氧化物相，并且只有单一类型的晶体结构而没有明显的第二种晶体结构，所述材料是不足化学计量的。

3.如权利要求1所述的材料，其中M是Zr，N是Ti，此时该材料只有立方氧化锆型的晶体结构而不存在明显的ZrTiO₄的晶体结构，所述材料是不足化学计量的。

4.如权利要求3所述的材料，其中x＝1，y＝0～3.9。

5.如权利要求1所述的材料，其中M是Nb，N是Ti，此时该材料只存在NbO₂型的晶体结构，而没有明显的Nb₂O₅或TiO₂型的晶体结构。

6.如权利要求5所述的材料，其中x＝0.5，y＝0～3.5。

7.如权利要求5所述的材料，其中该材料的分子式为NbT_0.5O_3.0。

8.如权利要求1所述的材料，它适用于生产光学薄膜涂层。

9.一种分子式为LM_xN_zO_y的材料组合物，其中L，M，N是元素周期表中IIIB、IVB和VB族的金属元素，O是氧，x、z、y是使氧与金属的比例小于4和y/(1+x+z)的比例也小于4的值，所述材料只有单一氧化物相的晶体结构而不存在明显的第二种类型的晶体结构，该材料是不足化学计量的。

10.如权利要求9所述的材料，它适用于光学薄膜涂层的生产。

11.一种使用权利要求1-10中任一项的材料组合物在基质表面生产光学涂层的方法，包括：取两种金属/金属氧化物的粉末，将它们混合成均匀混合物，将粉末的均相混合物压片，熔解该片，将熔解的片制成锭，把这些锭粉碎成小颗粒后，用氧气蒸发小颗粒以在基质表面生成一层光学涂层形式的化学计量的材料。

12.如权利要求11所述的方法，其中蒸发步骤是由电子束蒸发完成的。

13.如权利要求11所述的方法，其中蒸发步骤是由热蒸发完成的。

14.如权利要求11所述的方法，其中金属/金属氧化物用的粉末选自元素周期表中IIIB、IVB和VB族。

15.如权利要求11所述的方法，其中均匀混合的粉末压片要在混合物的熔点以上加热。

16.如权利要求11所述的方法，其中小颗粒加热到蒸发温度，并沉积在基质上。