[发明专利]工业含水系统中水垢的控制无效
| 申请号： | 96192502.7 | 申请日： | 1996-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1179138A | 公开（公告）日： | 1998-04-15 |
| 发明（设计）人： | P·M·霍克斯特拉;C·W·耶茨 | 申请（专利权）人： | 巴科曼实验室国际公司 |
| 主分类号： | C02F5/02 | 分类号： | C02F5/02;C02F5/08;C02F5/10;C02F5/14 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 黄益芬 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 工业 含水 系统 水垢 控制 | ||
1.一种组合物，包含：
(a)阴离子有机高聚物，
(b)多磷酸盐，和
(c)有机膦酸，其中(a)、(b)和(c)组合的量为能有效控制水系统中无机水垢形成的量。
2.权利要求1的组合物，其中阴离子有机高聚物是聚丙烯酸酯。
3.权利要求2的组合物，其中聚丙烯酸酯是丙烯酸/丙烯酰胺的共聚物。
4.权利要求1的组合物，其中多磷酸盐是三聚磷酸钠。
5.权利要求1的组合物，其中无机水垢是含选自硫酸钡、碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙、及草酸钙的无机金属盐的水垢。
6.权利要求5的组合物，其中无机水垢是含硫酸钡的水垢。
7.权利要求1的组合物，其中阴离子有机高聚物的量在约1.0％-约60.0％重量范围内，多磷酸盐的量在约1.0％-约50.0％重量范围内，而有机膦酸的量在约0.1％-约60.0％重量范围内。
8.权利要求7的组合物，其中阴离子有机高聚物的量在约1.0％-约30.0％重量范围内，多磷酸盐的量在约1.0％-约20.0％重量范围内，而有机膦酸的量在约0.1％-约10.0％重量范围内。
9.权利要求8的组合物，其中阴离子有机高聚物的量在约1.0％-约20.0％重量范围内，多磷酸盐的量在约1.0％-约10.0％重量范围内，而有机膦酸的量在约0.1％-约4.0％重量范围内。
10.控制水系统表面上无机水垢形成的方法，包括将该水系统与含下述成分的组合物接触：
(a)阴离子有机高聚物，
(b)多磷酸盐，和
(c)有机膦酸，其中(a)、(b)和(c)组合的量为能产生协同效应以有效控制水系统中无机水垢形成的量。
11.权利要求10的方法，其中无机水垢是含硫钡的水垢。
12.权利要求10的方法，其中含水系统是造纸机、纸浆研磨机，或油井。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴科曼实验室国际公司，未经巴科曼实验室国际公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/96192502.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：可用打开文件操作的计算机备份系统
- 下一篇：液晶化合物
