[发明专利]制造涂敷有颗粒的基片的方法和装置,以及所制成的这种基片无效

专利信息
申请号: 96192275.3 申请日: 1996-03-08
公开(公告)号: CN1177311A 公开(公告)日: 1998-03-25
发明(设计)人: 松本研二;铃木一男;芳贺宗夫 申请(专利权)人: 美国3M公司
主分类号: B05B7/14 分类号: B05B7/14
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 闻卿
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 涂敷有 颗粒 方法 装置 以及 制成 这种
【权利要求书】:

1.一种用来将待涂敷的诸颗粒喷射到一基片上的喷射器,它包括:

一由多孔材料制成的存储容器,所述容器包括一适于将诸颗粒存储在所述容器内的内部和一外表面;

一从所述容器外延伸至其内部并设置在所述存储容器底部的喷气嘴,所述诸颗粒存储在容器的一部分内,所述喷气嘴适于将行将喷射到存储容器外的喷射气体馈送到存储容器内部;

一在所述存储容器底部与所述喷气嘴大体同轴设置并且从所述容器的内部延伸至其外部的排放管,所述排放管适于将所述喷射气体和诸颗粒从所述存储容器内部馈送到其外部;以及

一搅拌气体入口,它与所述多孔存储容器的外表面呈流体连通,适于将搅拌气体从存储容器外部通过所述多孔容器馈送到存储容器内部以起搅拌作用,以便使至少位于存储容器的设置有所述喷气嘴和排放管的底部的诸颗粒成流化状态。

2.如权利要求1所述的喷射器,它还包括:一形成气体压力缓冲部分的外部容器,它由所述外部容器和至少是存储容器的、设置有喷气嘴和排放管的底部外表面之间的间隙所围成,其特征在于,所述搅拌气体入口是与所述缓冲部分流体连通的。

3.如权利要求2所述的喷射器,其特征在于,所述气体压力缓冲部分围绕在所述存储容器的周围。

4.一种包括如权利要求1所述的喷射器、用来制造涂敷有颗粒的基片的装置,它包括:

一如权利要求1所述的喷射器;

一用来将诸颗粒提供到所述喷射器存储容器内部的颗粒馈送器;以及

一与所述喷射器的排放管流体连通、用来将藉助喷射气体从喷射器中馈送出来的诸颗粒涂敷到一基片上的涂敷装置。

5.一种用来制造一涂敷有颗粒的基片的方法,它包括以下步骤:

(a)将诸颗粒馈送到一喷射器的存储容器内,所述喷射器包括一由多孔材料制成的存储容器,所述容器包括一适于将诸颗粒存储在所述容器内的内部和一外表面;

(b)用搅拌气体搅拌诸颗粒,所述搅拌气体是通过一与所述多孔容器的外表面相连通的搅拌气体入口经过所述多孔容器提供到所述存储容器的内部而起搅拌作用的,搅拌使至少位于存储容器底部的诸颗粒流化;

(c)将喷射气体通过一喷气嘴使经流化的诸颗粒从所述容器的内部喷射出来,所述喷气嘴从所述容器外部延伸至其内部并设置在所述容器的底部,在该底部,诸颗粒被流化,喷射气体和诸颗粒通过一与所述喷气嘴大体同轴设置的排放管而排出所述存储容器;以及

(d)利用一涂敷装置,用藉助喷射气体从所述排放管中排放出来的诸颗粒来涂敷一基片。

6.一种利用如权利要求5所述的制造方法进行制造的涂层基片。

7.如权利要求6所述的涂层基片,其特征在于,所述基片是一种片材,并且涂敷到所述片材上的诸颗粒是粒径在0.1至5μm范围内的磨粒。

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