[发明专利]金属氧化物场效应晶体管与双极晶体管复合结构器件无效
申请号: | 96118788.3 | 申请日: | 1996-11-05 |
公开(公告)号: | CN1181633A | 公开(公告)日: | 1998-05-13 |
发明(设计)人: | 弓小武;刘玉书;樊昌信 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/94 | 分类号: | H01L29/94;H01L29/70 |
代理公司: | 陕西电子工业专利事务所 | 代理人: | 王品华 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 氧化物 场效应 晶体管 双极晶体管 复合 结构 器件 | ||
1.一种金属氧化物场效应晶体管与双极晶体管复合结构器件,包括一个n+衬底,一个n-外延层,两个铝接点(6)与(9),两个栅极区(1)与(2)、在外延层n-设置一个p+结和一个p-结,两个铝接点(6 )与(9)之间设置有绝缘层(7),两栅极区(1)与(2)各由多晶硅栅极G、栅氧化层4、p-区、n+区构成,其特征在于:
①铝接点(6)连接n+与p+区,铝接点(9)连接p-与n+区,以在两个n+区形成一个较大的电阳R,并从铝接点(9)上引出阴极K,p+结的位置设在远离阴极K处,使阴极处的n+外围只存在p-区。
②外延层n-与栅极区(1)的p-、n+区分别构成MOS管M1的漏极、衬底和源极;外延层n与阴极处的p-、n+区分别构成双极晶体管的集电极、基极和发射极;外延层n+与栅极区(2)的p-、n+分别构成MOS管M2的漏极、衬底和源极。
③两MOS管M1、M2的栅极相连构成器件的阳极,M1管的源极与双极晶体管Q的基极相连,同时通过电阻R与双极晶体管Q的发射极和M2管的源极相连构成器件的阴极。
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