[发明专利]采用错开阵列空间光调制器的印刷系统和方法

权利要求书

1.一种单独照射物体上多个区域的系统，其特征在于所述系统包括：

光源；

空间光调制器，接收来自所述光源的光，并反射与待照射的所述区域相对应的所述光的所选部分，所述空间光调制包括一些n行单独被调制的像素的组，其中，每个所述行仅有1/n可以在任何时刻接收和反射所述的光，其中，n为大于1的整数；以及

所述物体通过接收来自所述空间光调制器的反射光而被照射，所述被照射的区域包括p列，从而，所述物体上的每一列通过所述n行像素之一行被照射。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，n行单独被调制像素的被照射部分在交叉作业的范围内相互错开，由此可通过对n行的每一行进行依次曝光而写入一行彼此连接的像素。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述空间光调制器包括排列好的n行像素的几个子阵列，使一个像素可以重复地在鼓上被曝光，以获得足够大的曝光量。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于所述空间光调制器包括活动镜器件。

5.如权利要求4所述的系统，其特征在于所述空间光调制器包括：

多个像素，所述像素的每一个包括可偏转的梁，邻接所述梁的寻址电极以及邻接所述梁的着陆电极(landing electrode)；

其中，加在所述梁与所述寻址电极之间的电压使所述梁偏向所述寻址电极，所述着陆电极设置成与偏向所述寻址电极的所述梁接触，并防止所述被偏转的梁接触所述寻址电极。

6.如权利要求4所述的系统，其特征在于所述空间光调制器包括：

做成层叠结构的多个像素；

所述层叠结构包括绝缘基片、位于所述基片上的隔离层、位于所述隔离层上的导电反射层以及多个寻址电极和着陆电极；

所述像素的每一个包括：

可偏转元件，它在所述反射层内形成并通过与从所述反射层形成的至少一个铰链连接到所述反射层的其余部分，

在所述隔离层内形成，并从所述可偏转元件延伸到所述基片的孔穴，

第一寻址电极，位于所述孔穴底部的所述基片上，并通过静电吸引力使所述可偏转的元件偏转，以及

第一着陆电极，位于所述孔穴底部的所述基片上，设置所述第一着陆电极既能在所述可偏转元件通过所述第一寻址电极的吸引偏转到所述基片时与所述可偏转元件接触，又能防止所述可偏转元件接触所述寻址电极。

7.如权利要求4所述的系统，其特征在于所述单独被调制的像素包括菱形镜元件。

8.如权利要求4所述的系统，其特征在于所述镜元件小于行中元件之间的间距。

9.如权利要求1所述的系统，其特征在于所述光源从包括发光二极管或激光二极管或白炽灯在内的一组光源中选择。

10.如权利要求1所述的系统，其特征在于所述空间光调制器包括几组三行单独被调制的像素。

11.如权利要求1所述的系统，其特征在于所述物体包括印刷用鼓。

12.如权利要求1所述的系统，其特征在于进一步包括设置在所述光源与所述空间光调制器之间的扫描器，所述扫描器用以使所述光在某几行单独被调制的像素上成像。

13.如权利要求1所述的系统，其特征在于进一步包括设置在所述光源与所述空间光调制器之间的光引导光学部件，用以同时照射所述单独被调制的像素的所述行。

14.如权利要求1所述的系统，其特征在于每个单独被调制的像素只有一部分被照射。

15.如权利要求14所述的系统，其特征在于进一步包括设置在所述光源与所述空间光调制器之间的障板。

16.如权利要求15所述的系统，其特征在于所述障板设置得离开所述空间光调制器不到10微米。

17.如权利要求14所述的系统，其特征在于每个单独被调制的像素只有一个正方形部分能被照射。