[发明专利]增强红细胞生成的HCPSH2特异性化合物的用途

权利要求书

1.一种化合物在制造用于增强红细生成的药物上的用途，所述化合物

a)结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于50倍的该化合物到人SH-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。

b)结合到人src SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

c)结合到人lck SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

d)结合到人fyn SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

e)结合到人p⁸⁵ SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

f)结合到人Grb2 SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

2.根据权利要求1的用途，其中所述化合物结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于50倍的该化合物结合到人SH-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。

3.根据权利要求1的用途，其中所述化合物：

a)结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于100倍的该化合物结合到人SH-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。

b)结合到人src SH2结构域上，其结合亲和力比低于100倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

c)结合到人lck SH2结构域上，其结合亲和力比低于100倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

d)结合到人fyn SH2结构域上，其结合亲和力比低于100倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

e)结合到人p⁸⁵ SH2结构域上，其结合亲和力比低于100倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高，和

f)结合到人Grb2 SH2结构域上，其结合亲和力比低于100倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

4.根据权利要求3的用途，其中所述化合物结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于100倍的该化合物结合到人SH2-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。

5.一种化合物在制造用于治疗贫血的药物上的用途，所述化合物

a)结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于50倍的该化合物结合到人SH-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。

b)结合到人src SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

c)结合到人lck SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

d)结合到人fyn SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

e)结合到人p⁸⁵ SH2结构域上，其结合亲和力低于50倍的该合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高，和

f)结合到人Grb2 SH2结构域上，其结合亲和力比低于50倍的该化合物结合到所述hcp SH2结构域上的结合亲和力还高。

6.根据权利要求5的用途，其中所述化合物结合到人hcp SH2结构域上，其结合亲和力比高于50倍的该化合物结合到人SH-PTP2 SH2结构域上的结合亲和力还高。