[发明专利]照明装置、包含它的曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，它备有：

照明装置，该照明装置具有：光源，对来自上述光源的光聚光的聚光反射部件，从一端接受经上述聚光反射部件的光、从另一端射出使该光强度分布均匀的光束的具有多边形截面形状的棒状光学积分仪，放大投影上述光学积分仪出射面中的像并将上述光束变为平行光束的投影透镜系统，其中，所述棒状光学积分仪的长度与所述截面形状中相对两边之间距离中的最长距离之比在2至50范围中；

使上述照明装置与基板相对移动的移动手段；

设置在照明装置中的平行光束出口附近的使掩模局部变形的掩模变形手段。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述掩膜变形手段具有喷出压缩气体的喷嘴。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，上述掩膜变形手段具有配置在上述喷嘴附近并对上述掩膜附近进行局部减压的吸引口。

4.一种曝光方法，其特征在于，

用照明装置通过掩膜对基板被曝光面的局部进行照明，所述照明装置包含：光源，对来自上述光源的光聚光的聚光反射部件，从一端接受经上述聚光反射部件的光、从另一端射出使该光强度分布均匀的光束的具有多边形截面形状的棒状光学积分仪，放大投影上述光学积分仪出射面中的像并将上述光束变为平行光束的投影透镜系统，其中，所述棒状光学积分仪的长度与所述截面形状中两对边之间距离中的最长距离之比在2至50范围中；

通过使上述照明装置侧与上述被曝光面及上述掩膜侧相对移动对上述被曝光面预定区域进行扫描；

通过对上述区域曝光，将掩膜图形复印到上述被曝光面上；

在进行上述扫描曝光时，利用设置在照明装置中平行光束出口附近使掩模局部变形的掩模变形手段来调整掩模和曝光面之间的距离。

5.如权利要求4所述的曝光方法，其特征在于，上述被曝光面与上述掩膜间距离的调节是通过喷出压缩气体使上述掩膜局部变形同时进行的。

6.如权利要求4或5所述的曝光方法，其特征在于，上述被曝光面与上述掩膜间距离调节是一边对上述掩膜附近进行局部减压一边进行的。