[发明专利]多下导管高性能盘组件

权利要求书

1、一种用于汽-液接触化学过程塔的多下导管组件，其中，所述的盘在其上具有作用区域，用于使上升的汽从中通过，并且，其中，液体被导向第一盘，并由此向下流经设置在其中的第一系列下导管到达第二盘，并穿过介于设置在其中的第二系列下导管中各个之间的作用区域，所述的组件进一步包括：

固定在所述塔上并沿所述下导管中的某些延伸的用来作为其支承的多个支承挡板；

将所述下导管固定在所述支承挡板上的多个安装件；

至少两个下导管被分开的、且以头对头的关系设置在所述盘中的一个之中；以及，    

设置在所述的头对头的下导管的所述端之间，用于允许液体穿过、上升汽流通过的一个作用桥部分。

2、如权利要求1的装置，其特征在于：所述的盘与所述的下导管相固定，并且也通过所述的支承挡板沿其中间区域来支承。

3、如权利要求1的装置，其特征在于：所述的盘通过塔支承环向周围环绕延伸来作为其向外的支承。

4、如权利要求1的装置，其特征在于：所述的一个单个的支承挡板沿所述的头对头的下导管连续延伸作为其支承，并包括一个开口，其中间区域用来容纳所述的通过那里的桥部分，并且易于液体从那里流过，从而平衡流到所述盘附近的液体流。

5、如权利要求1的装置，其特征在于：所述盘的所述作用区域上形成有汽阀，用于使上升汽流易于通过。

6、如权利要求5的装置，其特征在于：所述的桥中形成有多个汽阀，用于使上升的汽流易于通过并进一步增加所述盘的作用区域。

7、如权利要求5的装置，其特征在于：所述的汽阀包括固定类的阀。

8、如权利要求5的装置，其特征在于：所述的汽阀包括浮子阀。

9、如权利要求1的装置，其特征在于：所述的位于所述第一盘的第一系列下导管下面的第二盘区域的某些区域中构筑有汽上升通道(vapor riser tunnel)，而使上升的汽流易于从中流过。

10、如权利要求1的装置，其特征在于：所述的安装件包括以其第一端与所述挡板固定、第二端与所述下导管固定的平板。

11、如权利要求10的装置，其特征在于：所述的下导管进一步包括一个与其固定的拦板，且其中所述的连接件以其所述的第二端与所述的下导管固定。

12、如权利要求10的装置，其特征在于：所述的连接件包括一个槽(channel)，该槽具有足够的宽度尺寸来形成相对于所述下导管的液体偏转板(liquid deflectorplate)。

13、如权利要求10的装置，其特征在于：所述的安装件焊接于所述的挡板和所述的下导管。

14、如权利要求10的装置，其特征在于：所述的第一和第二下导管的取向大致互相平行。

15、在一种化学过程塔中通过它的混合区域，液体向下流动、汽体上升，一下导管盘组件在其中包括有多个下导管，所述的组件包含：

一个第一盘，该盘中设置一个第一系列下导管；

一个第二盘，该盘设置在所述的第一盘的下方，并且在该盘中设置有一个第二系列下导管；

所述的盘上形成有作用区域，用于使上升的汽流通过；

多个支承挡板，这些挡板固定于所述的塔，并沿所述的下导管中被选择的那些延伸横过所述的第一和第二盘；    

连接所述的下导管盘组件和所述支承挡板的装置；以及    

用于支承相对于所述挡板的所述盘边缘的装置。

16、如权利要求15的装置，其特征在于：所述第一盘的至少两个下导管以分开的、头对头的关系设置，并且，其中的作用桥设置在所述的头对头下导管的所述端之间，用于允许汽流通过。

17、如权利要求16的装置，其特征在于：所述的一个单个的支承挡板沿所述的头对头的下导管连续延伸作为其支承，并包括一个开口，其中间区域用来容纳所述的通过那里的桥部分，并且易于液体从那里流过，从而平衡流到所述盘附近的液体流。

18、如权利要求16的装置，其特征在于：所述盘的所述作用区域中形成有汽阀，以易于汽的上升流通过。