[发明专利]低金属离子含量的对－甲酚低聚物和光敏的组合物

权利要求书

1．一种制备正性光刻胶组合物的方法，包括以下步骤：a)制备钠离子含量≤650ppb、铁离子含量＜20ppb和钾离子含量＜20ppb的对-甲酚低聚物：在水中和酸催化剂存在下，使对-甲酚与甲醛水溶液反应，去除水和过量的未反应的对-甲酚，往低聚物中加入选自丙酮和甲醇中的一种极性有机溶剂，并通过具有孔径尺寸0.01μm至0.10μm的过滤器过滤该溶液；(b)制备光敏组分：将来自步骤(a)的对-甲酚低聚物中的60至100％摩尔的羟基用一个或多个重氮磺酰氯酯化，重氮酯部分包括60至100％摩尔2,1-二重氮萘醌-4磺酸酯和/或2,1-二重氮萘醌-5-磺酸酯；(c)提供来自步骤(b)的光敏组分，水不溶但碱水溶液可溶的酚醛清漆树脂，和适用的光刻胶溶剂的混合物；其中该光敏组分含量以非溶剂组分的重量计为1-35％重量，以均匀地光敏化光刻胶组合物；所述树脂在该光刻组合物中的含量以该非溶剂组分的重量计为65-99％重量，从而形成基本上均匀的光刻胶组合物。

2．根据权利要求1的方法，其中甲醛是30-40％的水溶液。

3．根据权利要求1的方法，其中催化剂是乙二酸。

4．根据权利要求1的方法，其中极性溶剂是丙酮或甲醇。

5．根据权利要求1的方法，其中用常压或真空蒸馏去掉水和过量未反应的对-甲酚。

6．根据权利要求5的方法，其中在96℃至200℃进行常压蒸馏。

7．根据权利要求5的方法，其中在200℃至220℃，4665帕斯卡压力下进行真空蒸馏。

8．根据权利要求1的方法，其中在100℃至220℃往熔融的对-甲酚低聚物中加入有机极性有机溶剂。

9．根据权利要求1的方法，其中对-甲酚低聚物通过0.01至0.05μm的过滤器过滤。

10．一种通过在基质上实现光刻胶成像而提供一种用于生产光敏元件的方法，它包括：

(a)用权利要求1的正性光刻胶组合物涂敷基质；

(b)加热处理已涂敷的基质，直到所有的溶剂基本上被去掉；

(c)将所述光刻胶组合物成像曝光；和

(d)用适当的显影剂去掉所述光刻胶组合物成像曝光区域。

11．根据权利要求10的方法，进一步包括在曝光步骤后或去除步骤前，于90℃至150℃，在热板上处理基质30秒至180秒，或在干燥炉中处理15分钟至40分钟。

12．根据权利要求10的方法，进一步包括在去除步骤后，于90℃至150℃，在热板上处理基质30秒至180秒，或在干燥炉中处理15分钟至40分钟。

13．根据权利要求10的方法，其中所述的基质包括一种或几种选自硅，铝，聚合的树脂，二氧化硅，掺杂的二氧化硅，四氮化三硅，钽，铜，聚硅，陶瓷，铝/铜混合物；砷化镓和其它Ⅲ/Ⅴ族的化合物的组分。