[发明专利]制造磁记录介质时可磁化层的差速凹版涂敷无效
| 申请号: | 95194647.1 | 申请日: | 1995-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN1155346A | 公开(公告)日: | 1997-07-23 |
| 发明(设计)人: | 约翰·D·芒特;唐纳德·M·刘易斯;约瑟夫·H·拉姆;凯文·J·库克;迈克尔·J·布罗斯特;诺曼·E·格尔克 | 申请(专利权)人: | 伊美申公司 |
| 主分类号: | G11B5/842 | 分类号: | G11B5/842 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张祖昌 |
| 地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制造 记录 介质 磁化 凹版 | ||
1.一种装置,用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上,以生产磁记录介质的可磁化层,所述装置包括:
a)一个凹版辊12,
b)以恒速转动凹版辊的装置,
c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊12的装置10,
d)具有一个表面的支持辊30,
e)以恒速独立转动支持辊的装置,所说恒速与凹版辊的表面速度不同,
f)一柔性挤压辊34,其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊30相靠的需要,而使支持辊30能以其表面速度驱动基底件14,
g)与支持辊30和凹版辊12中至少一个相连接的保持间隙的装置,用以保持支持辊30和凹版辊12之间的间隙,及
h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的强制装置。
2.如权利要求1所述的装置,其特征为:所述保持间隙的装置能将间隙保持在50与1250μm之间。
3.如权利要求1或2所述的装置,其特征为:所述强制装置包括一个位于凹版辊12的下游的引出惰辊17,和调节引出惰辊17位置、使引出角α的数值可在正负20°之间变化的装置;角α是以凹版辊12与支持辊30的连心线的垂线为基准,量至引出的基底带所得的角。
4.如权利要求3所述的装置,其特征为:所述用于调节引出惰辊17位置的装置可以调节而强使基底件14与凹版辊12以3°至6°的弧面相接触。
5.如权利要求1至4中之一条所述的装置,其特征为:支持辊的每端具有锥面36。
6.如权利要求5所述的装置,其特征为:锥面与支持辊30的轴线成5°至30°的角。
7.如权利要求1至7中之一所述的装置,其特征在于:它还包括一在凹版辊12下游的拉辊23和超速驱动拉辊的装置,以便在基底件14中建立足够的反张力,以保持其牢固地靠在凹版辊12上。
8.一种装置,用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上,以生产磁记录介质的可磁化层,所述装置包括:
a)一个凹版辊12,
b)以恒速转动凹版辊12的装置,
c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊的装置10,
d)一个支持辊15,30,
e)以恒速独立转动支持辊15,30的装置,所述恒速与凹版辊12的表面速度不同,
f)一挤压辊34,其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊15,30相靠的需要,而使支持辊15,30能以其表面速度驱动基底件14,
g)与支持辊15,30和凹版辊12中至少一个相连接的装置,用以保持支持辊15,30和凹版辊12之间的间隙,也为了增加支持辊和凹版辊间的间隙,而使接头不涂敷地通过,及
h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的装置。
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