[发明专利]辐射探测器无效

专利信息
申请号: 95194576.9 申请日: 1995-08-11
公开(公告)号: CN1079947C 公开(公告)日: 2002-02-27
发明(设计)人: 安德鲁·理德亚德;戴维德·施维斯布里 申请(专利权)人: 4D控制有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G02B6/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李德山
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 辐射 探测器
【权利要求书】:

1.一种辐射探测系统,包括一个在一个面上具有用于接收辐射的入射孔装置(18)的透过辐射的波导(10),一个联接辐射探测装置(24)的第一平面(23),一个接收来自入射孔装置(18)的辐射(36)的弯曲的反射面(20,22),和一个接收来自弯曲的反射面(20,22)的辐射(38)的并具有与之联接的平面的衍射光栅的第二平面(26),按照上述结构,弯曲的反射面(20,22)和平面的衍射光栅(28)聚焦来自入射孔装置(18)的发散的辐射(36,38),其特征在于辐射探测装置(24)是装在与衍射光栅(28)不同的面上,由衍射光栅(28)衍射的辐射(36,38)直接作用在辐射探测装置(24)上,且所要求的光谱带和光谱级聚焦在辐射探测装置(24)上。

2.按照权利要求1的辐射探测系统,其特征在于弯曲的反射面(20,22)是一种能把辐射作为一个会聚光束引至平面衍射光栅(28)的结构。

3.按照权利要求2的辐射探测系统,其特征在于孔(18),弯曲的反射面(20,22)和平面的衍射光栅(28)这样彼此布置使会聚光束的中心光线(38A)以较小的与光栅(28)的法线(N)的角度α入射在平面的衍射光栅(28)上。

4.按照权利要求1所述的辐射探测系统,其特征在于孔(18),弯曲的反射面(20,22),和平面的衍射光栅(28)这样彼此布置,使第一级光谱聚焦在辐射探测器装置(24)上。

5.按照权利要求4的辐射探测系统,其特征在于所说的第一级光谱位于光栅(28)的法线(N)的,与入射的会聚光束(38)的中心光线(38A)相对的一侧。

6.按照权利要求1的辐射探测系统,其特征在于包括多个对紫外线敏感的传感器(24)。

7.按照权利要求1的辐射探测系统,其特征在于辐射探测器装置(24)连接到电路装置(50)和显示装置(52)上,以便对入射在入射孔装置(18)上的辐射强度提供显示。

8.按照权利要求1的辐射探测系统,其特征在于波导(10)包括一个石英主体(12)。

9.按照权利要求8的辐射探测系统,其特征在于石英的波导(12)是按下列步骤制备:

对石英棒进行机械加工,由此使之具有弯曲的反射面(20),和平面探测器,衍射和输入面(23,26,14);

磨削和抛光弯曲的反射面(20)、衍射面(26),输入面(24)和探测器面(23);

把不能透过辐射的材料(16)涂覆到输入面(14)上,由此界定一个入射孔(18);

对弯曲的反射面(20)施加对要求的光谱带的辐射反射的涂层;

把衍射光栅(28)施加到衍射面上;和

把毛坯切片,以便形成多个波导。

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