[发明专利]具有保护膜的磁头

说明书

本发明涉及的是一种与诸如磁带等磁记录介质产生相对滑 动的磁头，用于进行磁记录及再现；更具体地说，本发明涉及 的是一种磁头，在它与记录介质进行滑动的表面上形成了一层 保护膜，以及一种磁记录及再现装置。

附图1是透视图，显示了用于立体声录音机的磁头。

这种类型的磁头H包括由软坡莫合金(Fe-Ni-Mo合金)制 成的屏蔽罩1和屏蔽板2a和2b，以及形成了磁隙G的磁芯3，它用 硬质坡莫合金(Fe-Ni-Nb合金)材料层迭而成。屏蔽板2a、2b、 磁芯3与屏蔽罩1之间的空间用树脂4予以填充。磁带T是以这样 的方式来形成的，即在聚酯薄膜或类似薄膜制成的基膜上形成 一层磁质层，该磁质层由细小的γ-Fe₂O₃或类似物的磁粉颗 粒以及粘合剂或类似物制成。

在上述磁头H中，由于磁带T在位于磁头H前面的滑动表面A 上滑动，因此滑动表面A的状态变化就会对磁头的记录和再现 性能产生影响。滑动表面A的所述状态变化包括例如磁带T上的 磁粉从磁带的基膜上剥落并附着在滑动表面A上，以及滑动表 面A被磁带T磨损。

当磁粉附着在滑动表面A上时，磁芯3和磁带上的磁质层之 间的间距变大，从而增大了间距损失。此外，当屏蔽罩1的表 面1a、屏蔽板2a和2b、以及磁芯3，特别是屏蔽板2a、2b和磁 芯3被在滑动表面上滑动的磁带T磨损时，就会使滑动表面A产 生偏心磨损，由于这种偏心磨损而造成的滑动表面A的不规则 性也会增大间距损失。

因此，人们设想在磁头H的滑动表面A上形成一层保护膜， 用于防止磁粉地附着和磨损。

然而，当在滑动表面A上形成一层保护膜时，为了避免滑 动磁带T对滑动表面A的磨损，就必须使上述保护膜具有一定的 厚度。然而当保护膜较厚时，磁隙和磁质层之间的间距就会增 大，造成间距损失，并降低磁头的再现灵敏度。

欧洲专利申请文件EP 0 581 303 A2公开一种磁头，在其滑 动面上设有一层氮化铬保护膜，这种保护膜具有10⁹～10¹¹dyn／ cm²的内压应力，不小于1500kgf／mm²的克鲁普(Knoop)硬度， 其氮成分的比率为20～60％的原子。因此这种磁头不仅对于由氧 化铁物质及其它金属材料组成磁质层的磁带，而且对于由那些 在磁头上具有强烈磨损作用的氧化铬磁性材料组成磁质层的磁 带也显示出极佳的耐磨性。所述保护膜的厚度为50～1000埃， 不会在磁头和磁性记录介质之间产生间距损失。尽管这种设有 保护膜的磁头具有声称的耐磨及不产生间距损失的优点，但实 际上这种磁头的效果并不理想，也未能解决由于磨损而造成的 输出率下降的问题。

为了减小由间距损失对再生灵敏度的影响，使之不至于成 为一个问题，就必须使保护膜的厚度小于100埃。但是当采用 这样的保护膜厚度时，由于磨损会很快地使保护膜损坏，同时 保护膜也有可能剥落。

本发明解决了已知技术中所存在的上述问题。本发明的目 的是提供一种磁头，该磁头能够通过减少磁隙损失或者提高再 现灵敏度来补偿由于保护膜造成的间距损失所导致的输出降低 量，并能够在形成保护膜之后获得与已知技术相同甚至比之更 好的再现效率。

此外，当在磁头的滑动表面A上形成保护膜时，需要采用 一种材料，使得磁带T上的磁粉难于附着在保护膜上，同时该 材料应具有足够的硬度，使之难于被磁带T的滑动所磨损。

然而，即使用于形成保护膜的材料使得磁粉难于附着在其 上并具有较高的硬度，如果该材料与构成磁头H的坡莫合金的 附着性能不好，保护膜也有可能从磁头T的滑动表面A上剥落。 此外，保护膜和滑动表面A之间的附着力取决于在形成保护膜 时构成磁头的坡莫合金的热膨胀和构成保护膜的材料的热膨胀 之间的差值，以及由于保护膜本身的特性所造成的与坡莫合金 的粘合特性的差别。