[发明专利]涂覆装置、用于该涂覆装置的补偿装置和补偿方法

权利要求书

1.一种涂覆装置，用于将一定数量的流体涂覆到一基片(44)上，该涂覆装置包括：

一涂覆模子(42)，它具有：一涂覆槽口(58)、一使流体流入涂覆槽口(58)的供给集流腔(54)、诸进入集流供给室腔(54)的进给口(56)、以及一流体从槽口(58)排出后沿其流动的外壁(66)；

一设在靠近涂覆模子(42)处使流体涂覆到基片上的旋转的接收辊(48)；

一设在模子(42)和接收辊(48)之间的储存器(46)，该储存器容纳沿涂覆模子(42)流动、行将施加到接收辊(48)上的流体；

一用来调节从储存器(46)加到接收辊(48)上的流体的数量的调节刮片(50)；以及

用来补偿该涂覆装置空转过程中溶剂挥发的装置，该装置将流体从储存器中抽出代之以合适的溶剂。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，替代的溶剂和流体所用的溶剂是相容的。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，替代的溶剂和流体所用的溶剂是相同的。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述补偿装置包括：一连接在储存器(46)底部附近使流体基本上自储存器(46)中全部抽出的泵(130)、以及向储存器加进溶剂的装置。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述添加装置包括：一控制溶剂进入储存器(46)的数量的控制阀140、以及控制储存器(46)中溶剂液位高度的装置，其中所述添加装置向储存器(46)中添加足够的溶剂，使溶剂的液面高过流体的液面以覆盖模子槽口(58)。

6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，它还包括补偿装置的控制装置(146)。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述控制装置包括：探测转速是否低于一预定水平的传感器装置、停止向储存器供给流体的停止装置、启动泵以使流体从储存器中抽出的启动装置、以及打开控制阀使溶剂进入储存器的装置。

8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，它还包括使调节刮片(50)紧抵接收辊(48)的装载装置。

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于，所述装载装置能重复地向调节刮片(50)施加一力，以使调节刮片(50)仅在平移方向上移动，而无需任何角度或侧向的调节即可使调节刮片(50)相对接收辊(48)定位。

10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述储存器包括第一和第二端、一由涂覆模子(42)的外壁(68)形成的前表面、一由接收辊的表面形成的后表面、以及一由调节刮片(50)形成的底面，其中所述模子(42)具有端部，还包括密封模子(42)的端部以及储存器(46)的端部的第一和第二端部密封件，端部密封件包括一密封调节刮片(50)的垫片部分(70)以及一密封接收辊的耐磨板部分(75)，耐磨板部分(75)防止垫片部分(70)和接收辊的接触和磨损。

11.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述储存器(46)包括第一和第二端、一由涂覆模子(42)的外壁(68)形成的前表面、一由接收辊的表面形成的后表面、以及一由调节刮片(50)形成的底面，其中所述模子(42)具有端部，还包括密封模子(42)的端部以及储存器(46)的端部的第一和第二端部密封件、以及不论模子的位置如何使端部密封件对准的调节装置。