[发明专利]用作板状液晶的取代苯并[9，10]菲的合成

权利要求书

1.合成下式取代的苯并[9，10]菲的方法该方法包括先用氧化剂，再用还原剂使与和偶合，或与联苯衍生物偶合，其中A、B、C、D、E和F各自独立地选自氢、卤素、烷基、烷氧基、羟基、酰氧基和芳氧基，以及G、H、I、J、K和L各自独立地选自氢、卤素、烷基、烷氧基、羟基、酰氧基和芳氧基，或A和B一起和/或G和H一起是

2.按照权利要求1的方法，其中部分或者全部如下所述：A＝G，B＝H，C＝I，D＝J，E＝K，F＝L。

3.按照权利要求1或2的方法，其中A＝B和C＝F和D＝E，以及其中的和偶合。

4.按照前述任意一项的权利要求的方法，其中的氧化剂包括过渡金属。

5.按照前述任意一项的权利要求的方法，其中氧化剂是单电子氧化剂。

6.按照前述任意一项的权利要求的方法，其中用氧化剂进行的偶合是在有机溶剂中进行的。

7.按照前述任意一项的权利要求的方法，其中使用氧化剂时还要加碱。

8.按照从属于权利要求6的权利要求7的方法，其中的碱不溶于该有机溶剂。

9.按照权利要求7或8的方法，其中的碱是过量的。

10.按照权利要求1-6中任意一项的方法，其中的氧化剂还同时有浓度不超过1％(重量)的酸。

11.按照前述任意一项权利要求的方法，其中氧化作用是在40℃以下进行的。

12.按照前述任意一项权利要求的方法，其中的还原剂是醇。

13.按照权利要求12的方法，其中的氧化剂是三氯化铁或NOBF₄，或前述二者，和其中的还原剂是甲醇。

14.按照前述任意一项权利要求的方法，其中使用了联苯衍生物，该方法是将联苯衍生物用氧化剂处理，然后加入邻-G，H-苯，再加入过量氧化剂，接着加入还原剂。

15.按照前述任意一项权利要求的方法，其中的化合物在其一个或二个邻位的位置上被取代，即是其中N和M独立地选自氢、卤素、烷基、烷氧基、羟基、酰氧基和芳氧基。

16.按照前述任意一项权利要求的方法制备的取代苯并[9，10]菲。

17.按照权利要求15的方法制备的α-取代苯并[9，10]菲。

18.烷基、卤素或氧烷基-α-取代的苯并[9，10]菲。

19.甲基、氟或氧甲基-α-取代的苯并[9，10]菲。