[发明专利]噁唑烷－2－酮衍生物和含有这些物质的药物

权利要求书

1.通式I的化合物以及式I的碱性化合物与酸形成的可药用盐：

其中

R表示低级烷基；

X表示环烯基；双环[2，2，1]庚-2-基，可被苯基-2-氧代-5-甲氧基甲基-噁唑烷基选择性地取代；双环[2，2，1]-庚-5-烯-2-基；金刚烷基；或被以下基团选择性地单取代或多取代的环烷基或哌啶基，取代基包括卤素、氨基、低级烷基、次氮基、氧基、羟亚氨基、亚乙基二氧基或

-OR¹，其中R¹表示-CH(C₆H₅)₂、-(CH₂)_nC₆H₅、低级烷基、氢、-(CH₂)_nNHCOCH₃、-(CH₂)_nNH₂、-(CH₂)_nCN、-(CH₂)_nSCH₃、-(CH₂)_nSO₂CH₃、-CO-低级烷基、-COC₆H₅，可被噁唑烷基选择性地取代；或

＝CR²R³，其中R²表示氢或低级烷基；R³表示氢、次氮基、低级烷基、苯基或COO-低级烷基；或-(CH₂)_nR⁴，其中R⁴表示次氮基、氨基、-NHCOCH₃、-COC₆H₅卤素、苯基或羟基；或-COR⁵，其中R⁵表示低级烷基、-CH＝CH-C₆H₅、-C₆H₅CF₃、-O-C(CH₃)₃或-O-低级烷基；或

-NR⁶R⁷，其中R⁶表示氢或-COCH₃；R⁷表示-COCH₃、苄基或-(CH₂)_nNHCOC₆H₄卤素；

n表示1-3；

Y¹表示-CH＝或-N＝；

Y²表示-CH＝、-C(OH)＝、-C(NO₂)＝、-C(NH₂)＝、-C(卤素)＝或-N＝。

2.根据权利要求1的化合物，其中

R表示低级烷基，

X表示环烷基或哌啶基，可被低级烷基、亚甲基、亚乙基二氧基、卤素、羟基、低级烷氧基、被羟亚氨基或氧基、被-O-(CH₂)₂-R⁸、-O-CO-R⁹或被-NH(CH₂)_nNHCOC₆H₄R¹⁰或-CH₂OH选择性地取代；双环[2.2.1]庚-2-基，可被苯基-2-桥氧基-5-甲氧基甲基-噁唑烷基选择性地取代；双环[2.2.1]庚-5-烯-2-基或金刚烷基；

Y¹和Y²之一表示CH基团，另一个表示氮原子或两者均表示CH基团；

R⁸表示-CN或-CH₂NH₂；

R⁹表示低级烷基、苯基或被噁唑烷基取代的苯基；

R¹⁰表示卤素和

n表示1-3。