[发明专利]超细单分散憎水二氧化硅颗粒的制备方法无效

专利信息
申请号: 94104007.0 申请日: 1994-04-13
公开(公告)号: CN1097718A 公开(公告)日: 1995-01-25
发明(设计)人: 傅小安;江龙 申请(专利权)人: 中国科学院感光化学研究所
主分类号: C01B33/145 分类号: C01B33/145;C01B33/13
代理公司: 北京市专利事务所 代理人: 郭佩兰
地址: 100101*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 超细单 分散 二氧化硅 颗粒 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种超细单分散憎水二氧化硅颗粒的制备方法,其特征是采用油中水微乳液与反胶束溶液混合。

2、根据权利要求1所说的方法,其特征是所述的微乳液中表面活性剂浓度范围为0.01~~0.6mol/L,增溶氨水浓度范围为0.1~~2.0mol/L;反胶束溶液中表面活性剂浓度范围为0.01~~0.6mol/L,硅酸酯浓度范围为0.05~~0.5mol/L,微乳液与反胶束溶液的体积比范围从1∶0.5至0.5∶1,微乳液与反胶束溶液中各成份的用量以是否能形成透明的溶液来确定。

3、根据权利要求2所说的方法,其特征是所用的表面活性剂为离子型表面活性剂琥珀酸酯磺酸钠(AOT)等;非离子表面活性剂:Triton X-45,Triton X-100(辛基酚聚氧乙烯醚),NP系列(壬基酚聚氧乙烯醚)等;有机溶剂为环己烷,正己烷,异辛烷等,硅酸酯类为硅酸甲酯、硅酸乙酯、硅酸丙酯、硅酸丁酯。

4、根据权利要求1所说的方法,其特征是制备纳米级单分散二氧化硅颗粒,颗粒直径小于50纳米。

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