[发明专利]金属和/或金属氧化物的连续还原无效

专利信息
申请号: 94101074.0 申请日: 1994-01-10
公开(公告)号: CN1101675A 公开(公告)日: 1995-04-19
发明(设计)人: 简·路易斯·万特;约翰尼斯·保罗斯·阿克曼 申请(专利权)人: 伊斯科尔有限公司;金属有限两合公司
主分类号: C21B13/08 分类号: C21B13/08;C21B11/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张祖昌
地址: 沙特阿拉伯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 金属 氧化物 连续 还原
【权利要求书】:

1、一种用于还原金属和/或金属氧化物的方法,在该方法中所述金属的轧制氧化皮用作被还原物料的至少一部分。

2、如权利要求1所述方法,该方法在一普通直接还原转窑中进行,该转窑具有一自由空间的内部区域及一高端和一低端,所述方法包括以下步骤:将轧制氧化皮从转窑的低端送至窑内的自由空间,使氧化皮按照氧化皮颗粒的质量均匀地分布在转窑的长度方向上,较重的颗粒比较轻的颗粒分布得更靠近窑的高端。

3、如权利要求2所述方法,还包括以下步骤:

(a)输入

(ⅰ)将所述金属和/或至少一种该金属的氧化物从窑的高端送入窑内;

(ⅱ)将空气输入窑内;

(ⅲ)将煤输入窑内并使其燃烧;当金属和/或金属氧化物移过转窑时,金属和/或金属氧化物与轧制氧化皮混合并一同被还原。

(b)将反应产品朝向窑的低端从窑内排出。

4、如权利要求2或3所述方法,其特征在于,在还原过程中反应物被连续地输入,且反应产品被连续地排出。

5、如权利要求2至4中任一项所述方法,其特征在于,轧制氧化皮由气力和/或液力/或机械方式从窑的低端抛入窑内,并输入窑内自由空间中。

6、如权利要求5所述方法,其特征在于,抛射力可将较重的轧制氧化皮颗粒抛向窑的高端从而使它们在还原过程中在窑内的存留时间比较轻的颗粒长,这种方式可使所有颗粒基本还原并可在还原的全过程/或还原过程中最大限度地减少无用付产品的形成。

7、如权利要求3至6中任一项所述方法,其特征在于,煤从窑的低端借助气力和/或液力/或机械方式抛入窑内的自由空间中。

8、如权利要求7所述方法,其特征在于,抛射力可将较重的煤颗粒抛向窑的高端,从而使它们在还原过程中在窑内的存留时间比较轻的颗粒长,这种方式可使所有颗粒基本上完全燃烧并在煤的不充分燃烧过程中最大限度地减少无用付产品的形成,同时也最大限度地提高窑内燃料的效率。

9、如权利要求7或8所述方法,其特征在于,煤也可从窑的高端输入以替代或补充从窑的低端输入的煤。

10、用于实现上述任一权利要求所述方法的装置,该装置包括一普通直接还原转窑,该转窑包括一用于将轧制氧化皮输入窑内自由空间的进料系统,该进料系统可根据窑内颗粒的质量将氧化皮均匀分布在窑内,较重的氧化皮比较轻的氧化皮分布得更靠近转窑的高端。

11、如权利要求10所述装置,其特征在于,轧制氧化皮进料系统靠近转窑的低端即出口端,并包括用于将较重的轧制氧化皮颗粒抛向转窑高端即入口端的装置,从而在还原过程中可使这些颗粒比较轻的颗粒在窑内的存留时间更长。

12、上述用于还原金属和/或金属氧化物的方法主要是参照附图加以说明的。

13、用于还原金属和/或金属氧化物的装置主要如上所述且如附图所示。

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