[实用新型]真空镀膜机移动靶装置无效

专利信息
申请号: 93212674.X 申请日: 1993-05-18
公开(公告)号: CN2162470Y 公开(公告)日: 1994-04-20
发明(设计)人: 张文华 申请(专利权)人: 张文华
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100088 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 真空镀膜 移动靶 装置
【说明书】:

本实用新型涉及真空镀膜机移动靶装置。

近年来,用磁控溅射技术或离子镀膜技术的真空镀膜设备(PVD设备)对大面积工件进行镀膜时,为达到镀膜均匀,可以采取在镀膜室内将靶固定,而使被镀工件移动的办法,这样必然要增加镀膜室的长度,加大了设备的体积和制造成本,且生产效率低;也可采用多靶镀膜室的方法(见公告号为CN2036533U的申请号为88216736.7的专利文献)。靶和被镀工件都不移动,这样镀膜室的体积相对来讲比较小,但由于采用多靶,而靶的同步控制难度大,制造成本也更高。

本实用新型的目的是设计结构简单,易于控制,镀膜室体积相对比较小,使被镀工件镀膜均匀,提高生产效率,降低制造成本的移动靶装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:

真空镀膜机移动靶装置,其特征在于包括吊装在移动装置上的磁控靶,沿导轨移动吊装磁控靶的移动装置,装在滑轮组上的柔性冷却管和电缆,由滑轮舱内的动滑轮和装在移动舱室端部的定滑轮组成的滑轮组,冷却管和电缆输入端子,装在移动舱室上部的驱动移动装置的无级变速装置。

由于采取了上述技术方案,使得真空镀膜室相对体积减小,且移动靶装置结构简单,易于控制,镀膜均匀,尤其适用于大面积平面工件的镀膜,并可安装两个或两个以上的靶同时对多个工件进行镀膜,进一步提高效率,降低成本。

附图说明:

图1是真空镀膜机移动靶装置图。

图2是图1的A--A剖视图。

结合附图所示的实施例对本实用新型进一步描述如下:

真空镀膜机移动靶装置是这样工作的:吊装移动装置(5)由安装在移动舱室(11)上部的无级变速装置(4)驱动,带动靶(1)沿移动舱室内的导轨相对于工件(3)匀速移动,同时带动装在滑轮组上的柔性冷却管和电缆与靶同步移动,滑轮组由滑轮舱内的动滑轮(9)和固定在移动舱室端部的定滑轮(7)组成。冷却管和电缆的输入端子固定在滑轮舱的上部。

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