[发明专利]除草的喹啉基噁二唑衍生物,它们的制备方法和含有它们的除草组合物无效

专利信息
申请号: 93117394.9 申请日: 1993-08-14
公开(公告)号: CN1040437C 公开(公告)日: 1998-10-28
发明(设计)人: 柳应杰;郑谨会;李元熙;金在宁;洪璟植 申请(专利权)人: 韩国化学研究所
主分类号: C07D413/10 分类号: C07D413/10;A01N43/82
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李瑛
地址: 韩国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 除草 喹啉 基噁二唑 衍生物 它们 制备 方法 含有 组合
【说明书】:

本发明涉及下述式(I)的新的喹啉基噁二唑,它们的制备方法,除草组合物和所述化合物作为除草剂和植物生长调节剂的用途。

在本领域中,用一些喹啉羧酸衍生物作为除草剂是已知的,例如,在Af Chem New Product Review-Volume VIII,1990;W.L.Hopkins Author,William L.Hopkins AG Chem Information Services,U.S.A.中描述了已知商品名为快杀稗和喹草酸的两个喹啉羧酸。下式(C)为快杀稗,喹草酸,在西德专利公开DE3,639,837和西德专利公开DE3,703,113中已被描述。

快杀稗除了在几种杂草上的活性外,对于抗稗草具有特效。

但是,本发明的发明者发现,一些新的喹啉基噁二唑衍生物是高活性的和更好选择性的除草剂或植物生长调节剂,它们在旱地稻和水稻田中选择性地防治稗时特别有用并且相当安全

本发明的目的是提供用作除草剂特别是用于水稻田的除草剂的化合物,各含有所述化合物作为活性成分的除草剂。

本发明的新化合物通过下式(I)表示其中,A和B选自由氢、卤素和C1-C4低级烷基组成的一组基团;R为C3-C4烷基,C3-C6环烷基,苯基,苯甲基,苯

基氧烷基,苯基硫烷基,吡啶基,噻吩基或呋喃基。

且其中R为可选择性被1~3个取代基取代或没有取代

基的芳香环,其中取代基选自由卤素,硝基,低级烷基,

低级烷氧基和低级卤代烷基组成的一组基团。

本发明除草剂包含作为它的活性成分的上述式(I)化合物。

本发明涉及相应于下式的喹啉基噁二唑衍生物其中,A和B选自由氢,卤素和C1-C4低级烷基组成的一组基团;R为C3-C4烷基,C3-C6环烷基,苯基,苯甲基,苯

氧烷基,苯基硫烷基,吡啶基,噻吩基,或呋喃基;且其

中苯基和苯甲基可选择地被1-3个选自由卤素,C1-

C4烷基,C1-C4烷氧基,C1-C4烷硫基,C1

-C4卤代烷基,C2-C6烷氧烷基,硝基,羟基和亚

甲二氧基组成的一组取代基取代;苯氧烷基中所述的芳环

取代基可选择地被1-3个选自由卤素,C1-C4烷基,

C1-C4烷氧基,C1-C4烷硫基,C1-C4卤代

烷基,C2-C6烷氧烷基,硝基,羟基和亚甲二氧基组

成的一组取代基取代;苯氧烷基中所述的烷基取代基可以

是C1-C4烷基,苯基硫烷基中所述的芳环取代基可选

择地被1-3个选自由卤素,C1-C4烷基,C1-C4

烷氧基,C1-C4烷硫基,C1-C4卤代烷基,C2

-C4烷氧烷基,硝基,羟基和亚甲二氧基组成的一组取

代基取代的;苯基硫烷基其中所述的烷基取代基可以是C1

-C4烷基,吡啶基,噻吩基和呋喃基中的杂环可选择地

被1-3个选自由卤素,C1-C4烷基,C1-C4

氧基,C1-C4烷硫基,C1-C4卤代烷基和C2-

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