[发明专利]研磨装置无效
| 申请号: | 93115329.8 | 申请日: | 1993-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN1091073A | 公开(公告)日: | 1994-08-24 |
| 发明(设计)人: | J·S·塞斯敦;D·N·莱特 | 申请(专利权)人: | 德比尔斯工业钻石部门有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 黄力行 |
| 地址: | 南非德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
1、一种研磨抛光装置,其特征为包括一个托板和至少一件安装于该托板上的研磨抛光垫,该垫包括一个研磨体,用掺有超硬研磨颗粒的热塑性聚合物制成,且具有一个研磨表面而在使用中完成研磨抛光作用,该研磨体上设置有规则排列的孔延伸至该研磨表面。
2、按权利要求1的一种研磨抛光装置,其特征为其中超硬材料包括金刚石或立方氮化硼颗粒。
3、按权利要求2的一种研磨抛光装置,其物征为其中热塑性聚合物选自聚醚酮(PEEK),聚(酰胺-酰亚胺),聚苯撑硫和液晶聚合物。
4、按权利要求3的一种研磨抛光装置,其特征为其中超硬颗粒是颗粒尺寸在2微米至300微米之间的金刚石。
5、按权利要求4的一种研磨按光装置,其特征为其中出现在研磨体中的金刚石颗粒的量按体积比为3%至30%。
6、按权利要求5的一种研磨抛光装置,其特征为其中出现在研磨体中的金刚石颗粒的量按体积比为3%至10%。
7、按前述的任一权利要求的一种研磨抛光装置,其特征为其中该孔呈狭窄的通道状垂直延伸至该抛光面。
8、按权利要求7的一种研磨抛光装置,其特征为其中通道为圆形横截面的毛细管通道,直径约为50微米。
9、按前述的任一权利要求的一种研磨抛光装置,其特征为其中托板为一个可转动的抛光头,且有多个研磨抛光垫安装在该抛光头上。
10、按前述的任一权利要求的一种研磨抛光装置,其特征为其中该研磨体以一种研磨层形式装在一个底板上。
11、按权利要求10的一种研磨装置,其特征为其中该底板是用一种热塑性聚合物制造的。
12、按权利要求10或11的一种研磨抛光装置,其特征为其中该研磨层和底板有互补的,互相嵌合的凸起和凹进而将该层固定到底板上。
13、按权利要求10至12中的任一权利要求中的一种研磨抛光装置,其特征为其中该研磨体和底板中的一个或两者掺混一种颜料,以标明超硬研磨颗粒的研磨能力。
14、一种抛光垫,其特征为它适于安装在一个可转动的抛光头上,且包括一个充满了超硬颗粒的一种热塑性聚合物制成的研磨层和一个层板,该研磨层安装其上,该研磨层有一个抛光表面和其上规则排列的延伸到抛光表面的孔。
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