[发明专利]离子镀装置无效
申请号: | 93104128.7 | 申请日: | 1993-04-05 |
公开(公告)号: | CN1043671C | 公开(公告)日: | 1999-06-16 |
发明(设计)人: | 榎本贡;篠宫秀夫 | 申请(专利权)人: | 西铁城钟表株式会社 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 孙敬国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子镀 装置 | ||
本发明涉及将蒸发材料蒸发于真空容器的钟罩内将该蒸发物质离子化后,通过将该物质或该物质与周围气体反应的化合物附着于被处理物而形成薄膜的离子镀装置。
离子镀装置,是一种将蒸发物质在真空状态的钟罩内离子化并将由该蒸发物质或该蒸发物质与周围气体的反应的化合物附着于被处理而形成薄膜的装置。通常,由于钟罩的容量越大成本则越高,且在该钟罩内排气的时间亦长,为了以低成本高效率形成薄膜,则必须有效地利用有限容量的钟罩一次尽可能多地处理被处理物。
为此,例如可分别将固定被处理物的多个夹具安装在环形链上,且将使该环状链在钟罩内转动的装配架固定于钟罩内的预定位置上,这样就能一次对多个被处理物进行薄膜形成处理。
但是,像这种备有一次能固定多个被处理物的装配架的电离镀装置,如图10所示有2个像蒸发源20A、20B那样的蒸发源,电子枪14A、14B处于图示位置状态,在由夹具51和环形链52、52构成的装配架50的配置方向,夹具51由环形链52带动沿箭头所示D方向转动,由于蒸发物的扩散区域沿箭头所示A方向宽,而沿箭头所示C方向狭,所以在装配架50上的被处理物16上形成的薄膜的膜厚及膜质分布难以均匀。
因此,在这样的位置中配置2个蒸发源的离子镀装置的情况下,如果将图10所示装配架50按图11所示配置方向进行形成薄膜的处理,则对于膜厚及膜质均匀化形成了良好的条件。但是,一旦这样做,如果下一步要打开设于钟罩11的小窗25上的小门26,取出安装在装配架50上面的夹具51上的被处理物时,由于该小窗25旁边对着装配架50的一面侧板53和环形链52的驱动系统,而不能将被处理物取出。
又,像这样的已有的一次能固定多个被处理物的装配架的场合,由于装配架固定于钟罩内的预定位置,维修时,如果要更换处于钟罩深处的配设于钟罩内的探针外侧的灯丝,就会因装配架挡住,使人手够不到灯丝,结果是若不从钟罩内取出装配架之后是不能进行这种作业的,所以维修性极差。
本发明鉴于上述问题而提出,其目的在于提供一种能够在一次尽可能多的被处理物上形成膜厚和膜质均匀的薄膜,且维修特性优良的电离镀装置。
本发明,为完成上述目的,所提供的离子镀装置,包括真空容器、蒸发源、电源及用于固定被处理物的装配架,其特征在于:上述装配架由用于固定上述被处理物的夹具、使该夹具转动的环形链、及通过支持部件共同载置所述链和所述夹具的台座构成,上述台座安装在固定于上述真空容器内的固定台座上,并可沿真空容器的内周面旋转。
按照上述构成的电离镀装置,通过将被处理物分别安装于由装配架的环形链使其转动的多个夹具上,能够一次在多个被处理物上形成薄膜。
然而,由于该装配架可以沿真空容器的内周面方向转动,使该装配架在最宜形成薄膜的旋转位置中旋转而形成薄膜,所以在被处理物上能形成膜厚和膜质均匀的薄膜。
又,维修时,能使该装配架尽可能旋转,所以不必将装配架从钟罩取出就能更换真空容器深处的部件。
以下,根据图面具体说明本发明的实施例。
图1为表示本发明一实施例的电离镀装置主要部分的概略构成图;
图2为该装置含有电源部分的同一概略构成图;
图3为图1的平面图;
图4为表示设于图1电离镀装置内的装配架60组成的斜视图;
图5为表示支持该装配架的环形链62与夹具61的支持轴85的连结部附近的斜视图;
图6为该同一图的纵剖面图;
图7为表示使图5的滚子80一边旋转一边移动的机构的概略图。
图8为表示可旋转支持装配架60的部分构造的剖面图;
图9为表示被处理物取出放入时装配架60相对于钟罩的位置的平面图;
图10为表示在有2个蒸发源的电离镀装置中装配架的配置不适合形成均匀薄膜情况例子的概略图;
图11为表示该装配架的配置适合形成均匀薄膜的配置的同一概略图。
符号说明:
11-钟罩(真空容器);11a-内周面;15-蒸发材料;15’-蒸发物质;16-被处理物;20A、20B-蒸发源;60-装配架;61-夹具;62、72-环形链;63、64-侧板(支持部件);65-台座;67-固定台座。
图1表示本发明的一实施例的电离镀装置主要部分的概略构成图;图2为包含电源部分的同一电离镀装置概略构成图;图3为图1的平面图。
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