[发明专利]玻璃涂层组合物无效

专利信息
申请号: 92115316.3 申请日: 1992-12-26
公开(公告)号: CN1041815C 公开(公告)日: 1999-01-27
发明(设计)人: 戴维·A·鲁索;瑞安·R·德克斯;格伦·P·弗洛柴可 申请(专利权)人: 北美埃尔夫爱托化学股份有限公司
主分类号: C03C17/245 分类号: C03C17/245;C03C17/34
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 颜承根
地址: 美国宾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 涂层 组合
【权利要求书】:

1.一种气体组合物,其温度为200℃以下,压力为大气压力,用于在温度为450-650℃的玻璃上以高于350/秒的沉积速率在低于200℃的温度下、大气压力下沉积一层第一层锡氧化物和硅氧化物层,其中该组合物包括摩尔比为0.1538-3.1724的锡氧化物的母物和硅氧化物的母物,从由有机亚磷酸酯、有机硼酸酯和水及其混合物组成的组中选出的一种加速剂,所述锡氧化物母物和硅氧化物母物的总摩尔数与所述加速剂的摩尔数之比为0.679-14.4,以及一种氧源。

2.权利要求1所述的组合物,它可以产生在日光下基本上没有反射色的玻璃制品。

3.权利要求1所述的组合物,其中该玻璃基物是移动的且沉积过程是连续的。

4.权利要求1所述的组合物,其温度低于175℃。

5.权利要求1所述的组合物,其中该加速剂是亚磷酸三乙酯。

6.权利要求1所述的组合物,其中该锡氧化物的母物是RnSnX1-n,其中R是具有1到6个碳原子的直链、环状、或支链烷基或链烯基;苯、取代的苯,或R′CH2CH2-,其中R′是MeO2C-、EtO2C-、CH3CO-、或HO2C-;X选自由卤素、乙酸酯、全氟乙酸酯及其混合物组成的组;n为0,1或2。

7.权利要求1所述的组合物,其中该锡氧化物的母物是卤化烷基锡。

8.权利要求1所述的组合物,其中锡氧化物的母物为氯化烷基锡。

9.权利要求1所述的组合物,其中锡氧化物的母物选自由三氯单丁基锡,二氯二丁基锡、氯化三丁基锡和四氯化锡组成的组。

10.权利要求1所述的组合物,其中硅氧化物的母物是RmOnSip,其中m为3到8,n为1到4,p为1到4,R独立地选自由氢和酰基、具有1到6个碳原子的直链的、环状的、或支链烷基和取代的烷基或链烯基、和苯或取代的苯。

11.权利要求1所述的组合物,其中硅氧化物的母物选自由原硅酸四乙酯,甲基二乙酸基二-叔-丁氧硅烷、乙基三乙酸基硅烷、甲基三乙酸基硅烷、甲基二乙酸基硅烷、四甲基二硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、二颇哪酸基硅烷、1,1-二甲基硅杂-2-氧杂环己烷、四(1-甲氧基-2-丙氧基)硅烷和三乙氧基硅烷组成的组。

12.权利要求1所述的组合物,其中硅氧化物的母物为原硅酸四乙酯。

13.权利要求1所述的组合物,其中该加速剂包括亚磷酸三乙酯。

14.权利要求1所述的组合物,其中该加速剂包括亚磷酸三乙酯和硼酸三乙酯。

15.权利要求1所述的组合物,其中沉积的速率高于400/秒。

16.权利要求1所述的组合物,其中该第一层是无定形的。

17.权利要求1所述的组合物,其中该第一层包括多层,且在该第一层上至少沉积一第一层。

18.权利要求17所述的组合物,其中该第二层包括一种锡氧化物。

19.权利要求17所述的组合物,其中该第二层包括锡氧化物和一种氟化合物的混合物。

20.权利要求17所述的组合物,其中该第一层的折射率在基物和第二层之间连续变化。

21.权利要求17所述的组合物,其中该第二层包括一种掺杂的锡氧化物。

22.权利要求17所述的组合物,其中该第二层是由一种母物混合物沉积成的,该母物混合物包括三氯单丁基锡和一种含氧物。

23.权利要求17所述的组合物,其中该第一层是由一种母物混合物沉积成的,该母物混合物在亚磷酸三乙酯存在条件下包括三氯单丁基锡和原硅酸四乙酯。

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