[发明专利]基片传送装置

权利要求书

1.用于将基片(23、23’)送入并使其通过真空处理设备若干工作站的传送装置，该真空处理设备具有一个加热装置(25)和若干大致为板形的、扁平平行六面体的基片支架，基片支架可在垂直位置下沿预定的传送路径通过工作站，其特征在于一个具有保持和导引基片(23、23’)装置的可移动的下端部(6)，这些保持和导引装置具有两个与导轨(28)和立式正推轴承(29)共同作用的轮组(30、30，…，31、31’，…)，并具有一个由下端部(6)保持的、用金银丝工艺制成的平面框架结构的上端部(7)，所述上端部(7)由垂直支撑(8、8’及9、9’)和水平支撑(10、11)构成，待加工的基片(23、23’，…)借助于一个基片支架(14、15)保持在框架上；至少一个连接点可在垂直支撑(8、8’及9、9’)和水平支撑(10、11)之间形成相向移动，这样，就有可能通过加热而在基片支架(14、15)和框架(5、5’)之间形成相对运动—例如长度的变动；并且所述加热装置垂直地从上而下伸入互相对置的基片之间的空间内。

2.按照权利要求1的装置，其特征在于下端部(6)整体制成，并具有大致平行六面体的外形。

3.按照权利要求1或2的装置，其特征在于下端部(6)借助一个轮—导轨装置加以保持和导引。

4.按照权利要求1的装置，其特征在于基片支架(14、15)借助于设置在基片支架(14、15)上端的、下端开口的挂钩(12，12’，13，13’)保持在框架(5，5’)的支撑(10，11)上。

5.按照权利要求1的装置，其特征在于每两个结构相同的基片支架(14、15)相互镜面对称地配置。

6.按照权利要求1的装置，其特征在于在垂直支撑(8、8’，9、9’)的外侧，设有屏蔽板(27、27’，…)，屏蔽板沿基片(23、23’，…)的主延伸方向伸展。