[发明专利]具有多极永磁体的机电变换器无效

专利信息
申请号: 92113899.7 申请日: 1992-12-16
公开(公告)号: CN1033120C 公开(公告)日: 1996-10-23
发明(设计)人: D·塔黑祖特 申请(专利权)人: ETA草图制造公司
主分类号: H02K21/18 分类号: H02K21/18;H02K37/12;G04C3/14;G04C15/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯,张志醒
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 多极 永磁体 机电 变换器
【权利要求书】:

1.一种电磁变换器包括:

一个定子,此定子包括两个磁力线导引臂和第一主定子部分,此第一主定子部分确定了一个具有中央区和围绕所述中央区的周边区的第一定子腔,所述第一定子腔的轮廓在所述周边区中确定了第一凹口圆齿冠,此第一豁口圆齿冠位于第一定子平面中并由被槽隔开的齿台构成;和

一个转子,它具有基本上垂直于所述第一定子平面的旋转轴,并穿过所述第一定子腔的所述中央区,此转子包括大于2的偶数个双极永磁体,每个双极永磁体确定了一对磁极,此对磁极排列于基本垂直于所述旋转轴的总转子平面的两侧,由每对磁极确定的磁场轴线具有基本上平行于所述旋转轴的取向,并且与由相邻磁极对确定的磁场轴线的取向相反,所述磁极对至少部分地面对所述齿台的至少一个叠置部分排列;

第一和第二线圈,它们分别安装在所述第一和第二磁力线导引臂上;所述电磁变换器其特征在于,所述定子进一步包括第二主定子部分,该部分具有面对所述磁极对排列的一个叠置部分,并确定了一个基本平行于所述第一定子平面的第二定子平面,所述齿台的和所述第二主定子部分的所述叠置部分分别位于所述总定子平面的第一侧和第二侧,所述第一主定子部分确定了第一和第二主磁极,所述第二主定子部分确定了至少一个第三主磁极,所述第一和第二磁力线导引臂分别使所述第一和第二主磁极与所述第二主定子部分磁耦合。

2.如权利要求1所述的电磁变换器,其特征在于,所述第一凹口圆齿冠的至少一部分面对所述第二主定子排列。

3.如权利要求2所述的电磁变换器,其特征在于,所述双极永磁体基本上环形排列,并在所述总转子平面中形成平面结构的多极永磁体,所述第一定子腔的所述中心区和周边区别是圆形和环形的。

4.如权利要求1所述的电磁变换器,其特征在于,所述双极永磁体的每一个确定了一个环形分段,各分段的中心角(α)实质上等于其它分段的中心角。

5.如权利要求1所述的电磁变换器,其特征在于,所述第一凹口圆齿冠基本上由通过第一和第二中间槽彼此隔开的第一和第二有序凹口齿冠构成,所述第一和第二有序凹口齿冠的齿台相应地确定了分别磁耦合至所述第一和第二主磁极的第一和第二次磁极。

6.如权利要求5所述的电磁变换器,其特征在于,所述第一和第二有序凹口齿冠的两个邻齿台以两倍于所述中心角(α)的值彼此角向隔开,所述第一有序凹口齿冠的一齿台相对于所述第二有序凹口齿冠的一齿台以下述角度彼此角向隔开,即,此角度等于所述中心角α的正整数倍再加上所述中心角的一半。

7.如权利要求1所述的电磁变换器,其特征在于,所述第二定子部分包括一个通过两磁接触片延伸的基体。

8.如权利要求7所述的电磁变换器,其特征在于,所述基体通过一颈部磁耦合至一个磁力线收集环,此环包括所述第二主定子部分的所述叠置部分。

9.如权利要求7所述的电磁变换器,其特征在于,所述基体通过一颈部磁耦合至一环形部分,在所述环形部分的外缘上形成有第二凹口圆齿冠,此第二凹口圆齿冠和所述颈的一部分组成第二主定子部分的所述叠置部分,所述第二凹口圆齿冠的齿台的角分布与所述第一凹口圆齿冠的所述齿台的角分布实质上是相同的。

10.如权利要求5所述的电磁变换器,其特征在于,在第一中间槽的区域和第二中间槽的区域分别设有所述的第一和第二主磁极的一峡口和一磁绝缘隙,第二主定子部分的颈部与第一主定子部分无叠置部分。

11.如权利要求3所述的电磁变换器,其特征在于,所述第一和第二主定子部分是完全平面的,并分别对准所述第一和第二定子平面设置。

12.如权利要求1所述的电磁变换器,其特征在于,所述第二主定子部分包括一个磁力线收集部分,此磁力线收集部分确定了第二定子腔并组成所述第二主定子部分的所述叠置区域。

13.如权利要求12所述的电磁变换器,其特征在于,所述第二定子腔的轮廓确定了第二凹口圆齿冠,此第二凹口圆齿冠的齿台基本上叠置于所述第一凹口圆齿冠的所述齿台,并呈现出与后者相同的角分布。

14.如权利要求13所述的电磁变换器,其特征在于,所述第二主定子部分基本上位于一个总平面中,所述第二凹口圆齿冠的所述齿台在所述总转子平面的方向上伸出此总平面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ETA草图制造公司,未经ETA草图制造公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/92113899.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top