[发明专利]气体绝缘开关装置无效

专利信息
申请号: 92113446.0 申请日: 1992-11-21
公开(公告)号: CN1073305A 公开(公告)日: 1993-06-16
发明(设计)人: 高桥和彦;藤谷茂;铃山比吕志;萱场仁志 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H02B13/035 分类号: H02B13/035;H02B1/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 郑修哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 气体 绝缘 开关 装置
【权利要求书】:

1、一种气体绝缘开关装置,包括至少两行平行设置的多个气体绝缘开关单元,每个气体绝缘开关单元包括安装三相中一相的断路单元(1)的垂直型的断路单元外壳(6a,6b,6c),在其内装有该相的断路(DS3)和接地装置(ES2,ES3)并与设置在断路单元外壳(6a,6b,6c)上的一个上引出部分(4a,4b,4c)相连的一个上侧外壳(9a,9b,9c)和在其内装有该相的断路开关(DS1,DS2)和接地装置(ES1)并与设置在断路单元外壳(6a,6b,6c)上的一个下引出部分(5a,5b,5c)相连接的一个下侧外壳(10a,10b,10c),其特征在于:设置在外侧的一行的气体绝缘开关装置中上下侧外壳(9a,10a)中至少一个设置成与相应的断路单元外壳(6a)的中心轴的延伸线向内偏移的,而一行的各相的断路开关(DS1,DS2,DS3)和接地装置(ES1,ES2,ES3)的公共操作单元(20,21,22,23,24,25)设置在设在外侧的一行的气体绝缘开关装置中偏移的上下侧外壳(9a,10a)和在另一行的气体绝缘开关装置中相邻的上下侧外壳(9d,10d)之间的一空间(12a)中。

2、按照权利要求1的气体绝缘开关装置,其特征在于在另一行的气体绝缘开关装置中的相邻的上下侧外壳(9d,10d)也设置成与相应的断路单元外壳(6d)的中心轴向延伸线向内偏移。

3、按照权利要求1的气体绝缘开关装置,其特征在于位于中间的同一行的气体绝缘开关装置单元中的上下侧外壳(9b,10b)沿着与在外侧的同一行的气体绝缘开关装置单元中的上下侧外壳(9a,9c,10a,10c)的反方向相延伸。

4、按照权利要求1的气体绝缘开关装置,其特征在于位于中间的同一行的气体绝缘开关装置单元中的上下侧外壳(9b,10b)设置成沿高度方向,相对于位于外侧的同一行的气体绝缘开关装置单元中的上下侧外壳(9a,9c,10a,10c)相偏移。

5、一种气体绝缘开关装置,包括平行设置的至少一行的多个气体绝缘开关装置单元,每个气体绝缘开关装置单元包括其内装有三相中一相的断路单元(1)的一个垂直型断路单元外壳(6a,6b,6c),其内装有该相的一断路开关(DS3)和一接地装置(ES2,ES3)并与设置在断路单元外壳(6a,6b,6c)上的一个上引出部分(4a,4b,4c)相连接的一个上侧外壳(9a,9b,9c),其内装有该相的一断路开关(DS1,DS2,)和一接地装置(ES1)并与设在断路单元外壳(6a,6b,6c)上的下引出部分(5a,5b,5c)相连接的一个下侧外壳(10a,10b,10c),一个装在上侧外壳(9a,9b,9c)上靠近上引出部分(4a,4b,4c)的该相的第一变流器(CT2),和一个装在下侧外壳(10a,10b,10c)上靠近下引出部分(5a,5b,5c)的该相的第二变流器(CT1),其特征在于,设在位于外侧的气体绝缘开关单元中的上侧外壳(9a,9b,9c)上的第一变流器(CT2)设置成与设在位于中间的气体绝缘开关单元中的上侧外壳(9b)上的第一变流器(CT2)沿上侧外壳(9a,9c)的轴向延伸方向相偏移。

6、按照权利要求5的气体绝缘开关装置,其特征在于装在各下侧外壳(10a,10b,10c)上的第二变流器(CT1)设置成沿各下侧外壳(10a,10b,10c)的轴的延伸方向与相应的上侧外壳(9a,9b,9c)上的同一相的第一变流器(CT2)相偏移。

7、按照权利要求5或6的气体绝缘开关装置,其特征在于位于中间的气体绝缘开关单元中的上下侧外壳(9b,10b)沿高度方向与设在外侧的气体绝缘开关单元中的上下侧外(9a,9c,10a,10c)相偏移。

8、按照权利要求5的气体绝缘开关装置,其特征在于所述的下侧外壳(10a,10b,10c)沿着与上侧外壳(9a,9b,9c)的相反方向延伸,装在位于外侧的气体绝缘开关单元中的下侧外壳(10a,10c)上的第二变流器(CT1)设置成沿下侧外壳(10a,10c)的轴向延伸方向相对于设在位于中间的气体绝缘开关单元中的下侧外壳(10b)上的第二变流器(CT1)相偏移。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/92113446.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top