[发明专利]改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体及其制造方法无效
| 申请号: | 92112861.4 | 申请日: | 1992-11-26 |
| 公开(公告)号: | CN1057631C | 公开(公告)日: | 2000-10-18 |
| 发明(设计)人: | 多贺谷敦 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
| 主分类号: | H01F7/02 | 分类号: | H01F7/02;H01F1/055 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 吴大建 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 改善 耐蚀性 稀土元素 过渡 金属 永久 磁体 及其 制造 方法 | ||
1.一种改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属永久磁体,其中在含有一种或多种包括钇的稀土元素和主要包括铁的过渡金属的稀土元素/过渡金属系永久磁体的表面上具有铜镀层,其特征在于,在该永久磁体的表面上涂覆有一导电性底层,在该底层上具有采用焦磷酸铜浴镀覆的平均结晶颗粒大小不大于0.9μm的铜电镀层。
2.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的铜电镀层中的铜的(111)晶面的X-射线衍射强度不小于6KCPS。
3.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的铜电镀层具有沿一个方向生长的晶体结构。
4.如权利要求2所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所述的铜电镀层具有沿一个方向生长的晶体结构。
5.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的底层为电镀镍层,无电铜镀层,采用氰化铜浴的铜镀层,采用含磷酸酯为主要组分的碱性有机酸铜浴的铜镀层中的任一种。
6.如权利要求2所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的底层为电镀镍层,无电铜镀层,采用氰化铜浴的铜镀层,采用含磷酸酯为主要组分的碱性有机酸铜浴的铜镀层中的任一种。
7.如权利要求3所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的底层为电镀镍层,无电铜镀层,采用氰化铜浴的铜镀层,采用含磷酸酯为主要组分的碱性有机酸铜浴的铜镀层中的任一种。
8.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中在该铜电镀层上进一步涂覆有一保护层。
9.如权利要求8所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的保护层为电镀镍层,无电Ni-P镀层,和镍合金镀层中任一种。
10.如权利要求9所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的保护层的表面粗糙度不大于1μm。
11.如权利要求9所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的保护层为所说电镀镍层,该镍镀层中的镍的(111)晶面X-射线衍射强度不小于4KCPS。
12.如权利要求8所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的保护层是以镍电镀层和铬酸盐层的顺序重叠的多层涂层。
13.如权利要求12所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的铬酸盐层的表面浸渍于碱性溶液中进行处理。
14.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所说的稀土元素/过渡金属系永久磁体由5-40%重量的R,R为包括钇的稀土元素的一种或多种,50-90%重量的TM,TM为一组主要是为铁的过渡金属,和0.2-8%重量的硼构成。
15.如权利要求1-11中任一权利要求所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所述的底层,铜电镀层和保护层的厚度范围,分别是0.1-10μm,2-20μm,和2-20μm。
16.如权利要求1所述的改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体,其中所述永磁体为空心体。
17.如权利要求16所述的改善了耐蚀性的铁/稀土元素永久磁体,所说的空心永久磁体呈圆柱状。
18.一种改善了耐蚀性的稀土元素/过渡金属系永久磁体的方法,包括以下步骤:
在由5-40%重量的R,R为包括钇的稀土元素的一种或多种,50-90%重量的TM,TM为一组主要为铁的过渡金属和0.2-8%重量的硼构成一种磁体的表面上,镀覆镍电镀层,无电铜镀层,采用氰化铜浴的铜镀层,采用含磷酸酯为主要组分的碱性有机酸铜浴的铜镀层中的任一种;
在其上涂覆焦磷酸铜浴镀覆铜镀层;并且
进一步涂覆镍电镀层,无电Ni-P镀层和镍合金电镀层中的任一种。
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