[发明专利]印像及其制造方法无效
| 申请号: | 92109832.4 | 申请日: | 1992-08-18 | 
| 公开(公告)号: | CN1031735C | 公开(公告)日: | 1996-05-01 | 
| 发明(设计)人: | 孙崇森 | 申请(专利权)人: | 孙崇森 | 
| 主分类号: | G03C1/76 | 分类号: | G03C1/76 | 
| 代理公司: | 辽宁专利事务所 | 代理人: | 张润 | 
| 地址: | 110011 辽宁省沈阳*** | 国省代码: | 辽宁;21 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 印像 及其 制造 方法 | ||
本发明涉及一种艺术印像及其制造方法,它是在硬质基材上涂布感光材料,经曝光、冲洗加工成像,加涂防护膜复合而成。
目前,在硬质基材上成像,如石玉碑、瓷板像大都是在其上先绘制图像或贴上图像,经过高温烧制而成,这样就需要产品批量大,生产周期长,不适应于特殊要求的加工和单件生产。
本发明的目的是提供一种印像及其制造方法,它能有效地克服在硬质基材上成像需先绘制图像和高温烧结的不足。
本发明的目的是这样实现的:印像发明的特征是以石板、玉板、瓷板、玻璃板、盘、碗、碑、金属板等硬质材料为基材,在其上涂布覆盖一层粘结感光层的底层材料,然后干燥备用,若不涂底层材料感光层会剥离起皱。底层材料是由A液与B液调制组成,A液的成分及配比为:
明胶 2克
水 50毫升
坚膜剂20#(10%) 3毫升
碳酸钠(5%) 0.5毫升
B液成分及其配比为:
水 50毫升
白胶 2.5克
表面活性剂1283#(4%) 0.5毫升;
涂完底层材料干燥后,在其上再覆盖一层成像后的感光材料,经曝光冲洗加工成像而成;感光材料的成份及配比为:
乳剂 100克
稳定剂583#(10%) 1毫升
防灰雾剂苯并三氮唑(1%) 1毫升
坚膜剂205#(10%) 1毫升
双四氮唑(1%) 0.5毫升
表面活性剂1283#(4%) 0.1毫升
消泡剂丁醇 0.1毫升;
成像后的感光层经自然干燥,在其上涂布覆盖一层罩光防护膜。
印像的制造方法如下:将硬质基材去污、酸浸、清洗、干燥后,把底层材料加热到45℃涂布在预热的硬质基材表面,在45℃烘箱中干燥4—5小时,在红色安全灯下把调制好的感光材料加热到45℃涂布在底层材料上吹干,把所需要印像的底片经过放大机放大曝光,感光材料感光后经冲洗加工,形成成像的感光层,自然干燥后,加涂罩光防护膜,防护膜可以是酚醛清漆或硝基清漆,经固化制得艺术印像。
本发明的实施例如下:
制备石、玉、碑(或瓷板)印像可分以下几步进行:
1.石玉碑(或瓷板)的选择和处理
石玉碑(或瓷板)必须事先经过挑选,应表面平整、光滑,如表面若有重金属离子或油脂点均有可能引起灰雾,为此,事先应将石玉碑(或瓷板)进行处理,其方法如下:
(1)去污:用抹布沾上去污粉在石玉碑(或瓷板)表面来回磨擦,除去表面上的脏污,再用清水冲掉去污粉,清洗后吹干;
(2)酸浸:将吹干的石、玉、碑(或瓷板)浸泡在洗液中,放置2小时进行酸洗,以便除去表面的有机物;
(3)清洗液的配制:称取重铬酸钾10克,加水10毫升,然后将175毫升浓硫酸慢慢加到重铬酸钾液中,切不可倒加,酸浸后用清水充分洗涤,除去残留的酸,然后再浸在15%的氢氧化钠液约15分,再用清水冲洗去残碱,最后再用蒸馏水清洗一次吹干,置于烘箱中干燥备用。
2.底层的涂布
为使感光材料更好地粘结在石、玉、碑(或瓷板)上,可先将底层溶液加热到45℃涂布在预热的石、玉、碑(或瓷板)上,涂布量经底层布满后,将剩余的量倒出立放干燥箱即可,否则不涂底层材料会剥离或起皱。
底层材料配:
A液:
明胶: 2克
水: 50毫升
坚膜剂205#(10%) 3毫升
碳酸钠(5%) 0.5毫升
上述物料在45℃水浴上反应2小时。
B液:
水 50毫升
白胶 2.5克
表面活性剂283#(4%) 0.5毫升
将上述物料充分搅拌分散均匀,同时将反应好的A液倒入B液中再搅拌10分钟,用尼龙细纱布过滤备用。将涂好的石、玉、碑(或瓷板)置于烘箱中(45℃)干燥4—5小时。
3.感光层的涂布
(1)乳胶的成分及配比为:
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