[发明专利]容器内表面电解机械复合抛光工艺无效
| 申请号: | 92109346.2 | 申请日: | 1992-08-15 |
| 公开(公告)号: | CN1035047C | 公开(公告)日: | 1997-06-04 |
| 发明(设计)人: | 安玉春;毕新华;王宣东;宋志淳;杜文焕 | 申请(专利权)人: | 锦西化工机械厂 |
| 主分类号: | B23H5/06 | 分类号: | B23H5/06;C25F3/16;B24B33/02 |
| 代理公司: | 葫芦岛市专利事务所 | 代理人: | 张忠信 |
| 地址: | 125000 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 容器 表面 电解 机械 复合 抛光 工艺 | ||
本发明涉及一种容器表面电化学机械结合的加工工艺,特别是容器内表面电解和机械复合抛光工艺。
目前,进行容器表面电解与机械结合的抛光工艺,一种方案是由大连理工大学所提出的“聚氯乙烯釜内壁镜面加工工艺”,专利号为CN85102757·A。技术特征是,利用电解抛光原理,再结合砂磨进行抛光操作。其机械抛磨部件是砂带。具体地说,就是砂带,电解抛光工艺。砂带在运行中以线接触的方式接触抛件表面。存在缺点是:1.由于砂带与工件是线接触,接触面积小,磨抛效率低;2.由于砂带用压轮支撑,而且砂带是撑紧的,与所抛工件是刚性接触。在工作时容易与抛面间产生跳动,而造成抛件表面出现局部凸凹不平,影响磨抛效果;3.由于砂带只是在砂布表面布置砂粒,而且砂带在通过压轮时弯曲,砂粒极容易脱落,而且砂粒间的间隙很容易被抛件残屑所填平,致使磨抛效率降低。所以,砂带更换率高,故抛光效率低。4.所采用的电解参数是恒定值,即不管第几次抛光操作均采用一种电解有关参数。与机械抛磨配合性差。由于砂带电解抛光工艺存在如上缺点,致使这种工艺所抛光的工件,其粗糙度只能达到Ra=0.1μm左右。
本发明的目的是提出一种新的电解与机械复合抛光工艺,使其克服现有技术的缺点,而且具有抛光效率高,抛件粗糙度低的特点。具体来说就是利用页状砂布轮与电解复合对容器表面抛光的工艺,也称:页状砂布轮与电解抛光工艺。
实现本发明目的方案是,应用电解抛光技术,利用页状砂布轮对容器表面进行有序电化学和机械的复合抛磨。电解抛光部分采用与页状砂布轮相适应的装置和电化学有关参数,机械抛光部分采用页状结构的砂布轮,通过选定页状砂布轮的直径,厚度,砂粒粒度,转速和与抛光工件的相对运动速度,调整电解装置有关参数,多次重复对工件进行磨抛,直至达到技术要求。
采用本发明方案的工艺进行容器表面抛光。优点主要表现在:1、由于所采用的页状砂布轮对所抛工件是柔性面接触,加工面作用平缓,磨削均匀,且不振动,不致造成新的局部不平。2、由于砂布轮的砂布呈页状环形排列,在磨抛过程中不断有新的砂粒与工件接触,磨抛效率高;3、由于砂布轮与工件是软性接触,砂粒不易脱落,而每片砂布通过砂磨面后自动复位,磨抛残屑也不能在砂粒间积累,从而保持良好的砂粒状态;4、由于采用页状砂布轮,而电解参数与之配套拟定,起到相互适应的效果。
由于本发明具有如上优点,在对容器表面抛光时效率较高,平均每分钟抛光面积可达0.33m2以上,而且其抛光工件粗糙度低,可达到Ra=0.03μm左右,适应金属容器表面抛光的要求,尤其是能够实现工件面积大,表面粗糙度要求极低的容器表面抛光。
下面结合附图作详细说明
附图为本发明工艺示意图。
本发明工艺所需设备装置有电解部分和机械部分。机械部分是砂布轮5。它是由若干片一面粘有砂粒的砂布呈页状环排固定于砂布轮轮毂上构成。通过动力装置带动它能够以一定速度转动。电解部分是由直流电源装置2、工件阳极1、工具阴极3,电解液4可通过电解液输送泵6输送到阳极1和阴极3之间,流量计7用于观测电解液4的流量。
容器表面抛光具体工艺过程是:首先将所要抛光的容器固定在固定架上,如果容器是圆筒形的其容器可以旋转。将砂布轮与容器表面呈切线方向设置,并与容器表面在一定压力下接触。砂布轮也可以转动。然后,将直流电源正极接于被抛光容器上,作为电解阳极1,再将直流电源负极接于工具电极3上,工具电极3与容器表面留有一定的间隙,将电解液4用输送泵6经管路和工具电极3中的孔流到阴、阳极两间隙之中。抛光作业开始时,接通直流电源,使阳极发生电化学溶解,容器表面金属以离子状态溶解于电解液中,并在金属表面产生钝化膜。在按通电解直流电源的同时,接通动力,使页状砂布轮以一定速度转动,同时,容器也以一定速度旋转,砂布轮一面转动,一面在容器表面相对位移,不断变更抛磨位置,对容器表面进行磨削。去除容器表面金属和电解所产生的钝化膜。电解和砂布轮同时对容器表面金属进行腐蚀和磨削的作用,使其表面趋于平滑。根据不同的容器,选定不同的抛光阶段和工艺参数。
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