[实用新型]带径向凸粒按摩轮的脚底按摩机无效

专利信息
申请号: 91227782.3 申请日: 1991-11-08
公开(公告)号: CN2109198U 公开(公告)日: 1992-07-08
发明(设计)人: 邱乾盛 申请(专利权)人: 邱乾盛
主分类号: A61H39/04 分类号: A61H39/04
代理公司: 三友专利事务所 代理人: 朱黎光
地址: 台湾省桃园县*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 径向 按摩 脚底
【说明书】:

实用新型涉及一种健身按摩器械,特别是一种带径向凸粒按摩轮的脚底按摩机。

由于脚部是人体站立行走的支柱,是最容易产生酸胀疲劳的部位,同时,它也是地球重力场、磁场对人体的作用点,也是人体血液循环和经延伸的最远点和最低点,很易产生循环障碍和病变,因此,对脚部、特别是对脚底部实施压触或按摩可有效地刺激脚底部各穴位,可加速血液循环和防止血液杂质的沉积所引起的病变,并能缓解疲劳、健身防病。所以,有不少按摩垫、按摩机问世。目前的脚底按摩机一般有踏动式和自动式的两种,其按摩轮结构基本相同,自动式的带有箱体,箱体内装有传动减速装置和动力源,通过动力源带动与减速装置相连的按摩轮转动,由于按摩轮的转动使踏蹬其上的脚底部得到滚触按摩。

这类按摩机所存在的缺点和不足是:

由于按摩轮的横向剖面形状为对扣起的蝶形或者菱形,其外圆周呈A形断面,因此,当其转动后与脚底部的接触只是一个很窄作用圈的类似线性接触,所以,其按摩面窄而按摩效率低,能耗大。而且,由于其可转动的按摩轮为一等直径的回转体,在回转体的最大接触按摩周边无任何的凸凹面,因此,与脚底部的接触始终是处于同一接触高度,既无法对脚底实施深度的刺激按摩,又不适应脚底凹凸曲面的脚形变化,所以,其按摩效果较差。

本实用新型的目的就在于克服现有技术所存在的上述缺点和不足,而提供一种具有较宽按摩面的,带有径向外凸凸粒按摩轮的,高效率、好效果的按摩机。

本实用新型的目的是下面的技术方案实现的,在现有的按摩机箱体内安装有动力源和与动力源相连接的传动减速装置,传动减速装置驱转传动减速装置相连的按摩轮支架转动,在支架周向间隔设有若干组可转动的按摩轮,在各按摩轮的外圆周表面沿径向外凸有若干各自独立的凸粒,凸粒可均匀分布或不均匀分布在按摩轮外表面,凸粒的凸起高度可相同或不同。

由上可见,本实用新型的效果是显著的。

第一,由于按摩轮外圆表面外凸有若干凸粒,因此,可对脚底部进行较深度的刺激按摩,强化了按摩效果,提高了按摩效率。

第二,由于凸粒是分布在具有一定轴向宽度的按摩轮外表面的,因此,其按摩接触面增大,按摩时间缩短,减少了动力消耗。

第三,由于外凸凸粒的凸起高度不尽相同或各凸粒间存在着下凹面,因此,使脚底部可得到刺激深度不同的按摩效果,并可使脚底部低凹部位也得到按摩。

本实用新型的具体结构是由下面的实施例及其附图实现的:

图1是本实用新型实施例1立体装配图。

图2是本实用新型实施例2立体装配图。

图3是图1中按摩轮的立体外形图。

图4是图1中按摩轮的另一种结构立体外形图。

图5是图2中按摩轮的立体外形图。

图6是图1中按摩轮的结构剖面图。

图7是图6的A向视图。

图8是图2中按摩轮的结构剖面图。

图9是图8的A向视图。

图10是图4中按摩轮的安装形式剖面图。

图11是图1中按摩轮的第三种结构立体外形图。

图12是图2中按摩轮的第二种结构立体外形图。

图13是图12的结构剖面图。

下面将结合附图1~13对本实用新型的具体结构进行详细地说明:

本实用新型由按摩机箱体1和箱体1凹槽5中放置的动力源8及与动力源8驱连的传动减速装置4以及与传动减速装置4连动的按摩轮支架2构成,在按摩轮支架2周向间隔套连有若干按摩轮3,各按摩轮3由销轴7穿连于按摩轮支架2之间,传动减速装置4与按摩轮支架2中心的转轴6相连接,按摩轮3外扣罩有软罩9,其特征在于:各按摩轮3圆周径向外凸有若干个凸粒31,凸粒31在按摩轮3外圆表面上间隔均布或杂错排列,按摩轮3是相邻串套在按摩轮支架2中或延展穿套在按摩轮支架2之间的销轴7上的,各销轴7与转轴6相平行。参见图1和图2

本实用新型的结构特征在于:

按摩轮支架2为两两对应的圆盘状,各按摩轮3本体的横剖面为椭圆形或中空的圆柱体,各按摩轮3中心的轴孔33与穿固在按摩轮支架2周边的销轴7活动套穿。参见图1至图4

本实用新型的结构特征还在于:

按摩轮3外表面外凸的凸粒31为扣钟状或锥柱状,其沿按摩轮3外表面径向凸起的高度相同或呈高低相杂凸起。参见图4、图5和图12

本实用新型的结构特征还在于:

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