[发明专利]钛基基质耐用镀层沉积法及由此得到的部件

权利要求书

1、一种在以钛为主要组份的基质上沉积耐用镀层方法，该镀层可为Ag或选自Cr，Ni，Co的一种材料或其组合，并可含SiC，Cr₂C₃，Al₂O₃，Cr₂O₃这样的陶瓷微粒物质，该沉积方法的特征在于它包括以下步骤：

a)喷砂使基质粗糙化，

b)经阴极溅射进行镍沉积而形成一底层镍，

c)中间阶段的洗涤，

d)将部件浸入氰化浴进行电解活化，

e)电解镍层的沉积，

f)最后的耐用镀层的电镀沉积，该镀层可以由Ag或选自Cr，Ni，Co的一种材料或其组合构成，并可含Sic，Cr₂C₃，Al₂O₃，Cr₂O₃这样的陶瓷颗粒物质。

2、权利要求1的沉积方法，其特征在于步骤（b）包括在惰性气体气氛下实施的两个连续的分步骤b₁和b₂，即：

b₁）在1×10^-1～50帕压力的真空装置中对基质进行离子轰击清除，

b₂）通入氩气造成惰性气体气氛，在2×10^-1～5帕压力的真空装置中进行阴极溅射镀镍。

3、权利要求2的沉积方法，其特征在于分步骤（b₂）实施的压力条件为0.4～0.8帕。

4、权利要求2或3的沉积方法，其特征在于分步骤（b₂）是通过阴极磁控管进行阴极溅射来完成的。

5、权利要求2或3的沉积方法，其特征在于被覆盖耐用镀层的基质被置作阳极，极化电压为-20～-500伏。

6、权利要求5的沉积方法，其特征在于基质的极化电压为-100～-150伏。

7、权利要求6的沉积方法，其特征在于靶为纯镍制成，轰击功率密度为70～700瓦/分米²，靶的轰击功率密度的选择决定于将覆盖耐用镀层的基质所能承受的温度。

8、权利要求7的沉积方法，其特征在于步骤（c）的洗涤方法为将部件在碱性浴中浸泡3～7分钟，随后用冷水冲洗。

9、权利要求8的沉积方法，其特征在于步骤（e）由连续的两个分步骤组成：

e1）酸化浴预镀镍，温度为50±5℃，先在6±1安/分米²的电流密度下进行3分钟，而后在4±1安/分米²的电流密度下进行10分钟，

e2）氨基磺酸盐浴镀镍，电流密度为2～4安/分米²，时间为5分钟。

10、权利要求9的沉积方法，其特征在于在d，e1，e2及f各步骤之间都有冷水冲洗的环节。

11、一种以钛为主要组分的基质所构成的部件，其特征在于从基质到部件的表面含有：

-磁控管阴极溅射沉积的一层3～7微米厚的镍，

-一层18～20微米厚的电解镍，这一层镍的形成先是经酸化浴预镀镍，后是经氨基磺酸盐浴镀镍，

-最外一层为耐用镀层，这一层可以由Ag或选自Cr，Ni，Co的一种材料或其组合，并可含Sic，Cr₂O₃，Al₂O₃，Cr₂O₃这样的陶瓷微粒物质，这一层的厚度大于80微米。