[发明专利]型体造型及复制工艺

权利要求书

1、一种型体造型方法，其特征是将型体材料制成许多的型料微元体，将型料微元体一个个布置在某空间内指定位置，型料微元体构成所需型体。

2、一种型体造型方法，其特征是将型体材料和填空材料分别制成型料微元体和填料微元体，将二种微元体一个个布置在某空间内指定位置，其中型料微元体构成所需型体，填料微元体填补型体内外的空腔。

3、一种型体造型方法，其特征是将型料与填料分别制成型料微元体的填料微元体，将二种微元体一个个布置在某空间内指定位置，其中型料微元体构成所需的型体，填料微元体填补型体内外的空腔，使型料微元体相互粘结后，去除填料。

4、一种造型机构，其特征是一对滚压筒，滚筒（2）上分布沟槽，沟槽内排满小芯片（1），每个小芯片由程序执行件控制其伸缩状态，指定一些小芯片缩进后，在槽内留出空穴，将型料充满空穴，滚压成微元体，槽移至指定位置，全部小芯片被顶出，将微元体顶出放置在指定位置。

5、一种造型机，其特征是二对滚压筒：滚筒（2）与滚筒（3）、滚筒（9）与滚筒（10），滚筒（2）和滚筒（9）上都分布有沟槽，沟槽都排满小芯片，每个小芯片由程序指令执行件小顶杆控制伸缩，指定每条槽内某几个小芯片缩进，而在槽内指定位置留出空穴，料斗（4）中的型料充满滚筒（2）上的空穴，被滚压成型料微元体，料斗（14）内的填料充满滚筒（12）上槽内的空穴，被滚压成填料微元体，滚筒与型箱相对移动，将槽转至指定位置，将微元体顶置指定位置，直至型料微元体布置成型体。