[发明专利]具有外部粉末加料器的等离子喷射装置无效

专利信息
申请号: 91102506.5 申请日: 1991-04-18
公开(公告)号: CN1058359A 公开(公告)日: 1992-02-05
发明(设计)人: 安东尼·J·菲默费雷多;约翰·E·内兹;马丁·E·哈克;冈瑟·海因 申请(专利权)人: 帕金-埃尔默有限公司
主分类号: B05B7/02 分类号: B05B7/02;B05B7/22;B05B1/24;B05B1/34
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 黄依文
地址: 美国康*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 外部 粉末 料器 等离子 喷射 装置
【权利要求书】:

1、一种等离子喷射装置,其特征在于包括:具有一包括进口端和出口端的轴向通孔的圆柱形喷嘴部件,进口端和阴极元件共同作用产生弧光等离子流从出口端射出,喷嘴元件在出口端还有一喷嘴面;

用于将粉末径向地注入到喷嘴部件外部靠近出口端的等离子流中的粉末加料器;以及

将环形涡流积聚在喷嘴表面的涡流装置,涡流装置在喷嘴面形成一清扫气流以防止粉末堆积在喷嘴面上。

2、一种等离子喷射装置,其特征在于包括:具有一包括进口端和出口端的轴向通孔的圆柱形喷嘴部件,进口端和阴极元件共同作用产生弧光等离子流从出口端射出,喷嘴部件在出口端还有一喷嘴面,喷嘴面上靠近通孔处有一同心的环形凹槽,凹槽从喷嘴部件的延伸部分向内形成槽的断面轮廓,凹槽有一径向厚度,凹槽的深度大致等于或小于径向厚度;以及

用于将粉末径向地注入到喷嘴部件外部靠近出口端的等离子流中的粉末加料器;

这样由等离子流引开的周围大气促使了环形涡流积聚在凹槽内,涡流在喷嘴面上形成一清扫气流以防止粉末堆积在喷嘴面上。

3、据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述深度大致为径向厚度的一半。

4、据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述装置还包括使弧形分布的气流沿延伸部分流动的环形气体装置,以使进一步驱动涡流和形成清扫气流。

5、据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述的凹槽部分是由大致和通孔垂直的内表面形成槽底部并贯穿延伸部分,以及设置用于将弧形分布的气流沿着内表面径向向内地注入的环形气体装置。

6、据权利要求5所述的装置,其特征在于,环形气体装置包括喷嘴部件的环圈部件径向向外地形成凹槽,环件有一定数量的弧形均布的小孔径向向内地向着内表面,所述小孔能均匀地接纳压缩气体。

7、据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述孔分为几组相互交替的垂直小孔和倾斜小孔,垂直小孔大致和通孔垂直并其设置使在内表面上掠过分布气体,倾斜小孔倾斜于轴向元件以致使分布气体以一个角度冲击在内表面上。

8、据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述凹槽是由向着出口端收缩的平截头锥形表面的延伸部分径向地向内形成槽的断面轮廓。

9、一种等离子装置,其特征在于包括:具有一包括进口端和出口端的轴向通孔的圆柱形喷嘴部件,进口端和阴极元件共同作用产生弧光等离子流从出口端射出,喷嘴部件在出口端还有一个喷嘴面,喷嘴面包括和通孔大致垂直的内表面以及从内表面向靠近通孔的出口端延伸的延伸表面;

有一附着于喷嘴部件的环件以使环件、内表面和延伸表面在喷嘴表面上形成了一个环形凹槽,所述凹槽有一径向厚度,凹槽的深度大致等于或小于径向厚度,环件有一定数量弧形分布的小孔来均匀地接纳压缩气体,小孔由轴向元件径向向内地分置以致使压缩气体以一定角度撞击到内表面;以及

用于将粉末径向地注入到喷嘴部件外部靠近出口端的等离子流中的粉末加料器;

这样压缩气体在喷嘴表面生成清扫气流以防止粉末堆积在喷嘴面上。

10、据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述深度为径向厚度的一半。

11、据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述的一定数量的孔至少有8个。

12、据权利要求10所述的装置,其特征在于,所述凹槽是由向着出口端收缩的平截头锥形表面的延伸部分径向地向内形成槽的断面形状的。

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