[发明专利]成像复印薄膜

说明书

本发明涉及一种成像复印薄膜，特别是一种静电成像复印薄膜。

可投射影像的幻灯片是人所共知的，并可由一种透明的聚合物薄膜基质和用静电复印法加在上面的影像或印迹制成。但是，这种静电复印法使用比较高的温度，这就影响了聚合物薄膜的卷曲度和平直度。日本的未审查过的专利申请书63-11326号描述了由一种无涂层的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜制成的低畸变光学记录介质。

此外，静电复印的影像可能缺乏持久性，即在重复的触摸和使用中耐磨性较差，除非是采取特殊的措施，使薄膜基质与影像层之间产生适当的粘着力。适于在静电激光照相印刷机或在宽型（841×1189毫米）复印机中使用的有颜料（白色）的或不透明的复印或绘图薄膜也遇到类似的问题。

本发明涉及对静电成像薄膜的卷曲度和平直度和该薄膜基质与成像层（由复印用色粉和静电复印法生成）之间的粘着力的同时改善。

因此，本发明提供一种成像复印薄膜，它由两部分构成：（1）一种热塑性聚合物材料基膜，该薄膜的横向（TD）热胀百分率在150℃时为0.01到1.0%，纵向（MD）百分率的热缩在150℃时为0.4到2.0%;（2）至少一个面上有一层接受层，它由一种丙烯酸树脂和/或甲基丙烯酸树脂构成。

本发明还提供一种生产成像复印薄膜的方法，即在热塑性聚合物薄膜基质的至少一面上生成一种丙烯酸树脂和/或甲基丙烯酸树脂接受层，该聚合物薄膜的横向（TD）热胀百分率在150℃时为0.01到1.0%，纵向（MD）热缩百分率在150℃时为0.4到2.0%。

按照本发明，成像薄膜的基质可由任何一种适用的热塑性聚合物成膜材料构成。适用的热塑性材料包括1-烯烃，如乙烯、丙烯和1-丁烯的均聚物或共聚物;聚酰胺;聚碳酸酯;尤其是合成的线型聚酯，后者可由一种或多种二羧酸或其较低级的烷基（6碳原子以下的）二酯与一种或多种二醇起缩合反应而得。比如由有对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2，5、-2，6-或2，7-萘二甲酸、丁二酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、4，4′-二苯基二羧酸、六氢化对苯二甲酸或1，2-双-对羧基苯氧基乙烷（可与任意选用一种一元羧酸，如新戊酸共用）等与一种或多种二醇类特别是脂族二醇，例如乙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇和1，4-环己烷二甲醇等缩合而成。聚对苯二甲酸乙二酯薄膜特别适用，尤其是在互相垂直的两个方向经过相继拉伸的。典型的拉伸温度为70到125℃之间，最好是在典型的温度范围150到250℃之间经过热定形的，例如英国专利838708号中所述。

该基质还可含有一种聚芳基醚或其硫代类似物，特别是聚芳基醚酮、聚芳基醚砜、聚芳基醚醚酮、聚芳基醚醚砜或它们的共聚物或硫代类似物。这些聚合物的例子在EP-A-1879、EP-A-184458和US-A-4008203等专利中曾公开过;其中特别适用的材料是ICIPLC以STABAR注册商标出售的那些。也可使用这些聚合物的共混物。

按照本发明，成像复印薄膜的基质可以方便地含有聚合物薄膜生产中任何一种常用的添加剂。因此，染料、颜料、疏松剂、润滑剂、抗氧化剂、防粘剂、表面活性剂、助滑剂、光泽剂、降解助剂、防紫外线剂、粘度调节剂和分散稳定剂等可适当地加入基质层中。

欲用作投影薄膜的基质应透明，以便在投影操作中能相对无限制地通过光线。但是，对于素纸的复印操作则可使用不透明或有颜料的聚合物基质。因此，一种基质可通过在其一面上施加一种有颜料的涂层而成为有颜料的;或者一种基质可通过在成膜热塑性聚合物中加入有效数量的不透明剂而变为不透明。在本发明的另一个实施例中，通过在聚合物中加入有效数量的能形成不透明、疏松的基质结构的药品而使不透明的基质变得疏松。同时能赋予不透明性的适用疏松剂含有：一种不相容的树脂填料、一种颗粒状无机填料或者两种或多种这些填料的混合物。

适用于制造不透明、疏松基质的颗粒状无机颜料包括通常的无机颜料和填料，特别是金属或准金属的氧化物，如氧化铝、二氧化硅和二氧化钛，以及碱土金属的盐类，如钙和钡的碳酸盐和硫酸盐类。硫酸钡是特别适用的填料，它还兼有疏松剂的功用。

生产具有良好的不透明度、疏松度和白度的基质时，要求填料应为细粉碎状，其平均粒度希望是从0.1到10微米，并保证99.9%（数目）的颗粒的实际粒度不超过30微米。填料的平均粒度以从0.1到1.0微米较好，最好是从0.2到0.75微米。