[发明专利]用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物

说明书

本发明涉及作光刻材料的显影剂组成物，特别是一用作显影通常只有用有机溶剂才可显影的未曝光的光致聚合的涂层的含水的显影剂组成物。

在制印刷线路板中作为光刻胶特别有用的光敏组成物在该领域中是众所周知的。通常，这些光刻胶被认为是干的或液态的可照相成像的焊料光刻掩模。在生产中作为光刻胶层，该焊料光刻掩模在曝光步聚前或后是以光化辐射曝光而成影像的。然后，在显影步聚中洗掉光敏层的未曝光区，形成一聚合物料的耐蚀层像。

该技术的情况由下列美国专利来说明：2，760，863;3，469，982;4，716，093;及4，499，163。其他有关的美国专利包括3，642，644;4，199，482;4，256，611;4，336，152;4，362，638;4，414，128;4，438，009及4，511，488。

用一有机溶剂可显影的光刻胶被认为是“溶剂可显影的”光刻胶。对于这种光刻胶，必需用有机溶剂如1，1，1-三氯乙烯，以使涂层显影。但是，这种挥发性溶剂在工厂（或车间）中是一危险品。

因此，提供一能对通常只有在有机溶剂中才可显影的光敏材料显影和/或去胶的含水的显影剂组成物是有利的。

含有表面活性剂的萜烯基含水的清洗的或洗涤预去斑点的组成在该领域中是众所周知的。参见，例如，下列美国专利：4，336，152;4，362，638;4，414，128;4，433，009;及4，511，488。但是，这种组成物总是包括大量的这种萜烯如α-萜二烯，和少量的水，且包括烃类溶剂，和/或极性有机溶剂，增溶剂，偶合剂和其他添加剂，以提供透明的、稳定的、含水的清洗液，它在静置下不分离。

因此，本发明的另一目的在于提供一以α-萜二烯为基的含水的显影剂组成，在工业上用于显影溶剂可显影的光刻胶特有效。

本发明的这些和其他的目的和特征将在下列概括和本发明的描述中显而易见。

本发明提供一含水的显影剂组成物，可显影溶剂可显影的光敏材料，并由一表面活性剂、一萜烯和水，以一定比例构成。在本发明的一个合适的形式中，本文该组成包括约0.5-10%重量的表面活性剂，和约0.2-10%重量的萜烯，其余为水。更好的是，该组成物包括约3-6%重量的表面活性剂，和约4-8%重量的萜烯，其余为水。该表面活性剂较好地为非离子型表面活性剂或其混合物，且该萜烯为α-萜二烯。

本文还提供一浓缩液配方，含水的显影剂组成可通过用水稀释来制备，通常水的用量为该浓缩液的约5-10倍。

根据本发明，该显影剂组成物的表面活性剂组份可为一离子、非离子两性的表面活性剂。一非离子表面活性剂是较好的。因此，下文特根据非离子表面活性剂的应用来描述本发明。

具体的（或典型的）非离子表面活性剂包括下列：

非离子

组    表面活性剂    公司    化学名称

（A）    三硝基甲苯    DF-12（Rohm    &    Haas）    改性

聚乙氧基化

DT-16    直链醇

DT-20

Rexonic    1012-6（Hart    化学）    乙氧基化

直链醇

Neodol    25-7    （Shell化学公司）

25-9    乙氧基化

25-12    直链醇

45-13

45-7

Plurafac    B-25    （BASF）

B-25-5    改性

氧乙烯化

C-17    直链醇

（B）    Triton    X-100（Rohim    &    Haas）

X-102    辛基苯氧基

X-114    聚乙氧基

X-101    乙醇

X-111

Igepal    CA620（GAF）

CA630    辛基苯氧基聚

CA720    聚（乙烯氧基）

CO610    乙醇

CO620

CO660

DM710

二烷基苯氧基

（乙烯氧基）

乙醇

Surfonic    N-85    （Texaco化学公司）

N-95    壬基苯氧基

N-100    聚乙氧基乙醇

N-102

N-120

N-150