[发明专利]X射线图象管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 89101205.2 申请日: 1989-03-03
公开(公告)号: CN1012773B 公开(公告)日: 1991-06-05
发明(设计)人: 阿武秀郎;小野胜弘 申请(专利权)人: 东芝株式会社
主分类号: H01J31/50 分类号: H01J31/50;H01J29/10;H01J9/20
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 颜承根
地址: 日本神奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 射线 图象 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、一种X射线图象管,具有真空管壳及含有配置在该真空管壳内的X射线输入侧的基板、在该基板上所形成的具有柱状结晶的荧光体层和在该荧光体层上所形成的光电面的输入面;其特征在于所具备的上述输入面为通过使上述荧光体层的柱状结晶的顶部变形而埋没柱状结晶的顶部间隙的输入面。

2、如权利要求1所述的X射线图象管,其特征在于在上述荧光体层上形成用以得到平坦面的表层。

3、如权利要求2所述的X射线图象管,其特征在于上述表层由荧光体构成。

4、如权利要求3所述的X射线图象管,其特征在于上述表层的平均结晶大小为上述柱状结晶的平均直径的1.5倍以上。

5、如权利要求2所述的X射线图象管,其特征在于上述表层是用碱金属卤化物形成的。

6、如权利要求1所述的X射线图象管,其特征在于在上述荧光体层上设导电性中间层,并在该中间层上形成光电面。

7、如权利要求6所述的X射线图象管,其特征在于上述导电性中间层由氧化铟或氧化铟锡所组成。

8、如权利要求1所述的X射线图象管,其特征在于上述荧光体层由在基板上用蒸镀法形成为粒状的第1荧光体层和在该第1荧光体层上成长为柱状第2荧光体层所组成。

9、一种X射线图象管的制造方法,为通过用蒸镀法在基板上形成有柱面结晶的荧光体层的工序和在该荧光体层上形成光电面的工序来形成输入面的X射线图象管的制造方法,其特征在于具备在形成上述光电面之前先使上述荧光体的柱状结晶头部作机械塑性变形,至少埋没柱状结晶的头部间的间隙、且形成该结晶的顶部实质上连续的连续面的工序。

10、如权利要求9所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于含有在上述荧光体层上形成用以得到平坦面的表层的工序。

11、如权利要求10所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于上述表层的平均结晶大小为上述柱状结晶的平均直径的1.5倍以上。

12、如权利要求10所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于上述表层是用碱金属卤化物形成的。

13、如权利要求9所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于在上述连续面上形成中间层之后形成上述光电面。

14、如权利要求9所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于通过用研磨装置研磨上述柱状结晶的顶部来形成上述连续面。

15、如权利要求14所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于上述研磨装置的研磨工具的推压力设定成与基板的中心部相比离周边部越近则推压力越大,并形成从中心部起离周边部越近则研磨得越光滑的连续面。

16、如权利要求9所述的X射线图象管的制造方法,其特征在于将多个球装载在上述柱状结晶的顶部并通过使上述基板振动来滚光该顶部,形成上述连续面。

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