[发明专利]阳图预涂感光版无损伤快速再生法无效

专利信息
申请号: 88100203.8 申请日: 1988-01-19
公开(公告)号: CN1011091B 公开(公告)日: 1991-01-02
发明(设计)人: 朱军 申请(专利权)人: 朱军
主分类号: G03F7/14 分类号: G03F7/14
代理公司: 大连市专利服务中心 代理人: 郭丽华
地址: 辽宁省大连市西岗*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阳图预涂 感光 损伤 快速 再生
【说明书】:

发明涉及感光印刷版的再生技术。

阳图予涂感光版即PS版的再生方法有多种,一般分为机械法和化学法。机械法是利用磨版机磨掉旧感光膜,这样在除掉旧感光膜的同时不可避免地磨损了版基上原有的砂目及氧化膜。它需要专用设备,又消耗大量能源。化学法克服了机械磨版法的不足,但有的方法要求旧版上的油墨必须及时清除干净,而且不能存放过久;有的脱膜剂成分复杂价格较高;有的则工艺复杂生产周期较长。在中国感光研究会应用技术专业委员会编的《论文报告摘要集》(1986.11于河南)中<PS再生版>(上海印刷技术研究所)一文介绍的新型OPT脱膜液能迅速除去PS版上各种油墨和胶料,其脱膜原理是与PS版版基上的氧化膜发生反应,同时对油墨和胶料也有分解作用,这样也损伤铝版基,再生时还需电解、氧化等工序比较复杂。

鉴于上述现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种能快速除去旧印版上的油墨及感光膜,而且不损伤印版上原来的砂目及氧化膜的PS版的再生方法。

本发明的目的可以通过下述措施来达到,一种阳图PS版无损伤快速再生法,其特征在于:擦拭表面涂有浓硫酸的旧PS版,待图纹消失后在其上施加浮石粉,经水洗、中和、封孔处理及干燥后再涂感光液,所用的硫酸浓度为95~98%。

通常阳图PS版所用的感光性树脂多为重氮萘醌磺酸脂,在光的作用下重氮基分解放出氮气,同时分子内部发生重排形成烯酮结构,烯酮在水分子的作用下立即水解形成具有亲水性羧基的水溶性化合物。以2、1、5型感光树脂为例其光化反应如下:

所以通常除膜,可以通过曝光使图纹部分的旧感光膜分解变成水溶性化合物,再用碱液将它溶解除掉。

但是印版上的油墨对光的吸收妨碍了上述光化作用的进行。一般印刷所用的树脂型油墨经过一段时间就会氧化结膜,由原来的线状结构变为立体网状结构,其反应可示意如下:

它不再溶于原来的有机溶剂。而采用浓硫酸可以将干燥油墨中网状结构上的氢、氧按2∶1的原子个数比脱出使其炭化。但是又控制浓硫酸的用量不使之全部炭化,只是将其立体网状结构破环成若干个小分子即可。同时又利用浓硫酸的氧化性,使其与铝版基接触时能够生成致密的氧化膜保护铝版基。

经浓硫酸作用后,残存在PS版上的物质有硫酸、油墨、感光膜等混合物,既有亲油性的又有亲水性的物质。采用浮石粉对上述物质均可吸附,这样既不损伤砂目及氧化膜又妥善地除掉了PS版上的残余物。

本发明的具体方法简要流程如下:

Na2CO3

涂浓硫酸→擦试→施加浮石粉→水洗→中和→

H3PO4

水洗→封孔→水洗→中和→水洗→晾干→涂感光液→备用。

本发明的具体作法是:根据旧PS版面大小及图纹部分的多寡,在版面上均匀涂上40-100毫升浓度为95~98%的浓硫酸,擦拭图纹部分至网点消失,在其上施加浮石粉,清除印版上用过的浮石粉后用水冲洗版基,并用碳酸钠水溶液中和版面上残存的酸,水洗版面呈中性进行封孔处理,之后水洗再用磷酸中和版面的碱,水洗晾干,涂布感光液后贮存备用。

本发明的方法适用于纯铝或合金铝的铝版基阳图型PS版,其包括:打样版、上机版以及涂布、晒版过程中产生的感光膜有弊病的废版。

本发明所提供的方法操作简便、成本低廉、原料易得、适用范围广。它不仅能够快速除去旧印版上的油墨、感光膜等,而且不损坏印版上原有的砂目及氧化膜,从而使价格昂贵的PS版基可以多次重复使用。

实施例1

取打样后已存放两年以上的厚度为0.5毫米铝合金版基的对开阳图型PS版,涂上50毫升浓度为95~98%的工业浓硫酸,用刷子擦拭图纹部分约2分钟,网点全部消失。用80克左右浮石粉清除印版上的硫酸,油墨及旧感光膜等混合物。然后用水冲洗版基,并用30%的碳酸钠中和版面上残存的酸,水洗至版面呈中性。接着用5%的硅酸钠水溶液在95℃封孔30分钟。之后水洗并用30%的磷酸水溶液中和版面上的碱,水洗至版面呈中性晾干。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朱军,未经朱军许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/88100203.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top