[发明专利]多源型平面磁控溅射源

权利要求书

1、一种多源型平面磁控溅射源，包括磁场源、溅射靶、水冷器、挡板及屏蔽罩，其特征在于：

-磁场源由固定的外磁组件和可绕轴转动的内磁组件6构成，其中，外磁组件包括环状下极靴2，环状磁体3，环状上极靴4及反向磁体5，内磁组件6包括扇形极靴ⅰ，V形磁体ⅱ和扇形磁体ⅲ。

-溅射靶板8由多个异质扇形板拼装而成。

-内磁组件6设置于水冷器中，且冷却水优先进入内磁组件6，并从内磁组件6顶部溢出。

-挡板25设置在溅射靶板8的上方，并在对应于内磁组件6的位置开有一个或多个扇形窗口，该挡板25可与内磁组件6作同步转动或摆动。

2、根据权利要求1的磁控溅射源，其特征在于：所述的内磁组件6可以是一个或多个。

3、根据权利要求1所述的磁控溅射源，其特征在于：所述的挡板25由传动齿轮24和带卡簧的从动齿轮26、27夹持，位于靶面上方4～6mm处。

4、根据权利要求1所述的磁控溅射源，其特征在于：水冷器的冷却水自进水管15引入，经转轴12的中心深孔和水腔Ⅰ，进入内磁组件腔Ⅱ，从内磁组件6顶部溢出到水腔Ⅲ，由铜质出水管16引出。

5、采用如权利要求1～4中任一顶所述的磁控溅射源进行镀膜的方法，其特征在于：根据膜的成分要求装置靶板，使内磁组件6和挡板25作同步旋转，以形成合多镀膜。

6、采用如权利要求1～4中任一顶所述的磁控溅射源进行镀膜的方法，其特征在于：根据膜的成分要求装置靶板，使内磁组件6和挡板26依次在各单元靶板下（上）作同步摆动，以形成多层镀膜。

7、采用如权利要求1～4中任一项所述的磁控溅射源进行镀膜的方法，其特征在于：溅射靶板8可以是同种材料构成，使内磁组件6和挡板25作同步旋转，以形成单层膜。