[其他]一种用于对准第一和第二物体相关位置的方法及实现该方法的装置

权利要求书

1、一种对准第一物体与第二物体的相关位置的方法，这两个物体是面对面地安置，对准是在与它们相对面的(法线)方向相垂直的方向上进行的，其特征为包括下列步骤：

在上述第一物体上制作一光栅图形作为对准标记；

在上述第二物体上制作一方格棋盘形的光栅图形作为对准标记；

使光源发出的光束直射到上述第二物体的上述方格棋盘形光栅图形上；

把在上述方格棋盘形光栅图形处发生衍射的衍射光束传输到上述第一物体的上述光栅图形上；

检测透射过上述第一物体的光栅图形时产生的衍射光束；以及

按照被检测的衍射光的强度来调整上述第一和第二物体的相关位置。

2、一种对准掩膜与硅片的相关位置的方法，当制作在上述掩膜上的电路图形转印到上述硅片上时，掩膜与硅片面对面安置，对准是在与它们相对面的（法线）方向相垂直的方向上进行的，其特征为包括下列步骤：

在上述掩膜上制作一光栅图形作为对准标记;

在上述硅片上制作一方格棋盘形光栅图形作为对准标记;

使光源发射的光束直射到上述硅片的上述方格棋盘形光栅图形上;

把在上述方格棋盘形光栅图形处发生衍射的衍射光束传输到上述掩膜的上述光栅图形上;

检测透射过上述掩膜的光栅图形时所产生的衍射光束;以及

按照被检测的衍射光强度来调整上述掩膜和上述硅片之间的相关位置。

3、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：将一个允许衍射光束通过的光学系统安置在上述掩膜和上述硅片之间。

4、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：在传输衍射光束的过程中，由方格棋盘形光栅图形所衍射的光束被一个空间滤光反射镜选择后被引导到上述掩膜的上述光栅图形上。

5、根据权利要求3所述的方法，其特征在于：安置在上述掩膜和上述硅片之间使衍射光束通过的上述光学系统系，是用来转印电路图形的光学投影系统。

6、根据权利要求5所述的方法，其特征在于：对准上述掩膜和上述硅片所用的光的波长不同于用于转印电路图形的上述光学投影系统所用的光波长。

7、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：在直射光束的过程中所用的上述光源是激光器。

8、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：在上述掩膜上制作的上述光栅图形是光透射型，而制作在上述硅片上的上述方格棋盘形光栅图形是反射型。

9、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：在传输衍射光束的过程中，由方格棋盘形光栅图形所衍射的光束被空间滤光反射镜选择后被引导到上述掩膜的上述光栅图形上，在检测衍射光束的过程中，由掩膜的光栅图形所衍射的第0级二次衍射光的强度被检测。

10、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：上述方格棋盘形光栅图案是由多个正方块拼接而成的。

11、根据权利要求2所述的方法，其特征在于：上述方格棋盘形光栅图案是由多个长方块拼接而成的。

12、一种对准第一与第二物体的相关位置的方法，这两个物体是面对面地安置，对准是在与它们的相对面的（法线）方向相垂直的方向上进行的，其特征为包含下列步骤：

在上述第一物体上制作光栅图形作为对准标记;

在上述第二物体上制作方格棋盘形光栅图形作为对准标记;

使光源发出的光束直射到上述第一物体的所谓光栅图形上;

把透射过上述第一物体的上述光栅的光束传输到上述第二物体的上述方格棋盘形光栅图形上;

把被上述方格棋盘形光栅图形所衍射和反射的的光传输到上述第一物体的上述光栅图形上;

检测来自上述第一物体的光栅图形的衍射光束;以及

依据所检测到的衍射光的强度来调整上述第一和第二物体间的相关位置。

13、根据权利要求12所述的方法，其特征在于：上述的第一物体是掩膜、上述的第二物体是硅片。