[发明专利]制作全息光栅的方法和设备无效
| 申请号: | 87100754.1 | 申请日: | 1987-02-20 |
| 公开(公告)号: | CN1019419B | 公开(公告)日: | 1992-12-09 |
| 发明(设计)人: | 小池雅人;野田英行 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号: | G02B5/32 | 分类号: | G02B5/32;G02B5/18 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 李强 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制作 全息 光栅 方法 设备 | ||
1、在衬底上产生细纹图形以制作全息光栅的方法,其特征在于包括下列步骤:
把两束相干光束投射到所述衬底上,其中至少一个所述光束是象散光束并具有离轴取向,所述象散光束在光栅中心与光束主光线路径所确定的平面内和垂直于所述下面的平面内有两个不同的焦距,且所述离轴取向是通过沿一离轴方向反射或折射所述光束而形成的,从而使所述两个光束的干涉在所述衬底上形成所述全息光栅。
2、制作带有细纹图形的全自光栅的设备,包括:
用于把第一相干光束投射到衬底上的第一装置;
其特征在于:
第二装置,用于把第二相干光束投射到所述衬底上,从而使所述第一和第十相干光束的干涉形成所述细纹图形以制成所述全息光栅,
其中所述第一和第二相干光束中的至少一束为象散光束并且有离轴取向。所述象散光束在光栅中心与光束主光线路径所确定的平面内和垂直于所述平面的平面内有两个不同的焦距。
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