[发明专利]新的噻唑化合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 86108205.2 申请日: 1986-12-05
公开(公告)号: CN1017707B 公开(公告)日: 1992-08-05
发明(设计)人: 植田育男;松尾昌昭;真锅孝司;松田博 申请(专利权)人: 藤沢药品工业株式会社
主分类号: C07D417/14 分类号: C07D417/14;C07D401/04;A61K31/425;A61K31/445
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马崇德
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 噻唑 化合物 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种制备下列分子式的噻唑化合物或其盐的方法:

其中R1是氨基、低级烷基氨基、酰氨基、或N-酰基-N-(低级)烷基氨基,

R2是氢、低级烷基或苯基,

R3是氢、硝基、氨基、酰氨基、羟基或低级烷氧基,

A是低级亚烷基,

Q是氢或卤素,和

粗实线意指单键或双键,

制备方法中包括:

(a)下列化学式的化合物或其盐:

其中R2、R3和粗实线各如上述定义

与下列化学式的化合物或其盐反应:

其中X是离去基团,和

R1、A和Q各如上述定义,

从而得到下列化学式的化合物或其盐:

其中R1、R2、R3、A、Q和粗的实线各如上述定义,或,

(b)下列分子式的化合物或其盐:

其中R1a是酰氨基或N-酰基-N-(低级)烷氨基,和

R2、R3、A、Q和粗的实线各如上述定义,

进行溶剂化分解反应得到下式化合物或其盐:

其中R1b是氨基或低级烷氨基,和

R2、R3、A、Q和粗的实线各如上述定义,或,

(c)下式化合物或其盐:

其中R2、R3、R1b、A、Q和粗的实线各如上述定义,

与酰化剂反应得到下式化合物或其盐:

其中R2、R3、R1a、A、Q和粗的实线各如上述定义,

(d)下式化合物或其盐:

其中R1、R2、A、Q及粗的实线各如上述定义,

进行还原得到下式化合物或其盐:

其中R1、R2、A、Q和粗的实线各如上述定义,

(e)下式化合物或其盐:

其中R1、R2、A、Q和粗的实线各如上述定义,

与酰化剂进行反应得到下式化合物或其盐:

其中R3a是酰氨基,和

R1、R2、A、Q和粗的实线各如上述定义,

(f)下式化合物或其盐:

其中R1c是酰氧基取代的酰氨基,和

R2、R3、A、Q和粗的实线各如上述定义,

在酰氧基上进行酰基消除反应得到下式化合物或其盐:

其中R1d是羟基取代的酰氨基,和

R2、R3、A、Q及粗实线各如上述定义,

(g)下式化合物或其盐:

其中R1e是酯化羧基取代的酰氨基,及

R2、R3、A、Q和粗实线各如上述定义,

进行脱酯化反应得到下式化合物或其盐:

其中R1f是羧基取代的酰氨基,和

R2、R3、A、Q和粗实线各如上述定义,

(h)下式化合物或其盐:

其中R5是低级链烯基,和

R2、R3、A、Q和粗实线各如上述定义,

与下式化合物或其盐反应:

其中Z是O、S、NH或单键,

m是整数1、2或3,和

n是整数0、1、2或3,

得到下式化合物或其盐:

其中Y是低级亚烷基、和

R2、R3、A、Q、Z、m、n和粗实线各如上述定义。

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