[发明专利]光记录装置无效
申请号: | 86107205.7 | 申请日: | 1986-10-15 |
公开(公告)号: | CN1004948B | 公开(公告)日: | 1989-08-02 |
发明(设计)人: | 坪井信义;渡部笃美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | G11B7/007 | 分类号: | G11B7/007 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 李强 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 装置 | ||
1、光记录装置包括:
光记录介质,其中被光点照射的部位被加热到超过高于室温的第一温度的温度上在加热部位冷却后建立了第一个相结构,而在被光点照射的加热到介于第一个温度与超过室温但不超过第一个温度的第二个温度之间的温度的情形下在加热部位冷却后建立了第二个相结构,从而由如下方式记录信息,即将第一和第二个相结构中的一个对应为记录了信息的状态而将其中的另一个对应为消抹掉信息的状态;
其特征在于
光学装置,用于聚焦两束光束以形成两个光点,并用于将两个光点定位在所述光记录介质上并沿被照射的记录轨道成为前光点和紧邻前光点的后光点;
用于提供将要被记录在所述光学记录介质上的信息的信息源;
用于调节所述光学装置的第一调整装置,用于使前光点的光强使由前光点照射的部位预热到不超过第一个温度的温度上,后光点的光强超过前光点光强,使预热的部位在所述后光点根据来自所述信息源的信息的照射下被加热到超过第一个温度的温度上,从而使所述部分具有第一结构;
用于调整所述光学装置的第二调整装置,使得当将所述光记录介质设在第二种结构时,加强的前光点的光强将该部位加热到介于第一个温度和第二个温度之间的温度上,后光点的光强被用来将加热的部位的温度保持在第一个温度和第二个温度之间。
2、根据权利要求1的光记录装置,其中所述光学装置包括:
用于前光点的第一光源;
用于后光点的第二光源;
用于把从所述光源发出的光作为前光点和后光点照到所述光记录介质上的装置。
3、根据权利要求1的光记录装置,其中所述第一调整装置包括用于将前光点的大小调整成大于后光点的大小尺寸的装置。
4、根据权利要求3的光记录装置,其中所述第一调整装置包括用于将前光点散焦和将后光点聚焦的装置。
5、根据权利要求1的光记录装置,其中所述第二调整装置包括用于将前光点的大小调整成小于后光点的大小尺寸的装置。
6、根据权利要求1的光记录装置,其中所述第一调节装置包括:
前光点调整装置,用来调整前光点的光强以持续照在所述光记录介质上,使将该部位加热到介于第一温度和第二温度之间的温度,从而将加热部位记录的信息消抹掉并预热将要照射的部位;
后光点调整装置,用于将后光点照射到消抹和预热后的部位的至少一部分,根据待记录的信息将记录部位加热到超过第一个温度的温度上。
7、根据权利要求6的光记录装置,其中所述的前光点调整装置是用于调整提供给所述第一个光源的功率,从而调整从所述第一个光源发射的光的总量的装置,所述后光点调整装置是用于调整加在所述第二个光源的功率,从而调整从所述第二个光源发射的光的总量的装置。
8、根据权利要求5的光记录装置,其中所述第二调节装置包括用于聚焦前光点和散焦后光点的装置。
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